เทคโนโลยีหลัก

Chunyuan มีเทคโนโลยีหลักจำนวนมากและได้พัฒนาอุปกรณ์ PVD (การสะสมไอทางกายภาพ) อย่างอิสระรวมถึงการชุบสูญญากาศไอออนหลายชนิด นอกจากนี้ยังได้พัฒนาเลเยอร์การเคลือบขั้นสูงเช่นฟิล์มนาโน/ไมครอนคาร์บอนและฟิล์มโลหะผสมซึ่งโดดเด่นด้วยอุณหภูมิการเคลือบต่ำไม่มีความเครียดจากความร้อนความบริสุทธิ์สูงความหนาแน่นสูงและความแข็งที่รุนแรง

ผลิตภัณฑ์ปัจจุบันได้ถูกนำไปใช้อย่างกว้างขวางในอุตสาหกรรมต่าง ๆ รวมถึงอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ 3C ผู้บริโภคส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์การขนส่งเครื่องมือตัดและแม่พิมพ์พลังงานใหม่การแพทย์และสถาบันการวิจัย