อุปกรณ์เคลือบไอออนบริสุทธิ์

อุปกรณ์เคลือบไอออนบริสุทธิ์ส่วนใหญ่รวมสามเทคโนโลยี: เทคโนโลยีการเคลือบไอออนบริสุทธิ์ (PIC), เทคโนโลยีการทำความสะอาดลำแสงไอออนพลังงานสูง (IONBEAM) และเทคโนโลยีสปัตเตอร์ Magnetron (สปัตเตอร์) และเทคโนโลยีหลักที่เป็นเอกลักษณ์ของแหล่งเคลือบไอออนบริสุทธิ์ ระบบกรองแม่เหล็กไฟฟ้าที่มีประสิทธิภาพและระบบสแกนแม่เหล็กไฟฟ้าใช้ในการกรองสิ่งสกปรกเช่นอนุภาคที่เป็นกลางและกลุ่มไอออนอนุภาคขนาดใหญ่เพิ่มขึ้นอย่างมากปรับปรุงความบริสุทธิ์ของลำแสงพลาสมาทำให้ฟิล์มหนาแน่นขึ้น อุปกรณ์เคลือบไอออนบริสุทธิ์สามารถชุบด้วยฟิล์ม TA-C ที่มีลักษณะคล้ายเพชรที่มีความหนาตั้งแต่ไม่กี่ร้อยนาโนเมตรถึงยี่สิบไมครอน

แสดงอุปกรณ์การเคลือบไอออนบริสุทธิ์ใช้ตัวกรองแม่เหล็กไฟฟ้าที่มีประสิทธิภาพสามารถกรองอนุภาคและสิ่งสกปรกได้อย่างมีประสิทธิภาพการออกแบบการระบายความร้อนด้วยน้ำนวัตกรรมการกระจายความร้อนมีประสิทธิภาพมากขึ้น

โดยใช้เทคโนโลยีการเคลือบไอออนบริสุทธิ์กระบวนการเคลือบอุณหภูมิต่ำกระบวนการเคลือบจะถูกควบคุมต่ำกว่า 150 องศาซึ่งสามารถหลีกเลี่ยงความเครียดจากความร้อนและการเสียรูปของสารตั้งต้น

แสดงการออกแบบใหม่ของแหล่งที่มาของ ARC การประยุกต์ใช้ความก้าวหน้าทางเทคโนโลยีล่าสุดปรับปรุงความน่าเชื่อถือในระยะยาวของแหล่งอาร์คอย่างมากลดเวลาในการบำรุงรักษา

แสดงอุปกรณ์เคลือบไอออนบริสุทธิ์ที่มีแหล่งแมกนีตรอนสปัตเตอร์ที่หลากหลายสามารถให้โซลูชั่นการทดลองที่หลากหลายสำหรับการวิจัยทางวิทยาศาสตร์และการตรวจสอบกระบวนการ

แสดงเฟสเพชร (พันธบัตร SP3) ในชั้นฟิล์มที่เตรียมไว้สามารถเข้าถึงได้มากกว่า 75%และคุณสมบัติทางกายภาพและทางเคมีนั้นคล้ายกับเพชรมากและฟิล์มมีความแข็งสูงมาก

》A series of excellent features, such as >5000HV (>50GPA) ค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานต่ำมาก (<0.1), can greatly improve the service life of coating products;

แสดงระบบปฏิบัติการกระบวนการอัจฉริยะอัตโนมัติที่ออกแบบด้วยตนเองให้การแก้ไขสูตรและความสามารถในการโทรที่ครอบคลุมและสะดวกสบายพร้อมระบบตรวจสอบพารามิเตอร์กระบวนการตามเวลาจริงช่วยให้การควบคุมระยะไกลออนไลน์