อุปกรณ์เคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอร์

เครื่องเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งเป็นเทคโนโลยีการสะสมไอทางกายภาพที่ใช้ปฏิกิริยาระหว่างสนามแม่เหล็กและไอออนในการเตรียมฟิล์มบาง เครื่องเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งใช้เทคโนโลยีหลักที่ได้รับการพิสูจน์แล้วของบริษัท: การทำความสะอาดไอออนบีม + แหล่งกำเนิดแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่ง ในห้องสุญญากาศ สภาพแวดล้อมจะเข้าสู่สถานะสุญญากาศสูงโดยการดูดฝุ่น จากนั้น ด้วยการปล่อยแสงหรือการแผ่รังสีความถี่วิทยุ พื้นผิวเป้าหมายจะถูกกระตุ้นเพื่อทำให้อะตอมหรือโมเลกุลของก๊าซที่ทำงานแตกตัวเป็นไอออน และก่อตัวเป็นพลาสมา จากนั้น เมื่อใช้สนามแม่เหล็ก ไอออนจะถูกควบคุมโดยสนามแม่เหล็ก ซึ่งจะเพิ่มความน่าจะเป็นในการชนพื้นผิวของเป้าหมาย ลำแสงไอออนชนกับพื้นผิวของชิ้นงาน ทำให้อะตอมหรือโมเลกุลบนชิ้นงานสปัตเตอร์และสะสมบนพื้นผิวของวัสดุด้วยความเร็วสูงขึ้นเพื่อสร้างฟิล์ม พลังงานของลำแสงไอออนสามารถปรับได้ และโครงสร้างและคุณสมบัติของฟิล์มสามารถเปลี่ยนแปลงได้โดยการควบคุมพลังงานและความหนาแน่นของลำแสงไอออน เครื่องเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอร์ใช้การควบคุมอัตโนมัติเต็มรูปแบบ การเพิ่มประสิทธิภาพการรวมโมดูลาร์ พลังงานสูง ความเสถียรที่ดี ใช้งานง่าย และบำรุงรักษาง่าย เครื่องสปัตเตอร์แมกนีตรอนเหมาะสำหรับการพัฒนาการเคลือบและบริการการเคลือบเป็นชุด

แสดงความเร็วการสะสมที่รวดเร็ว

แสดงอุณหภูมิของพื้นผิวที่เพิ่มขึ้นต่ำ

แสดงความเสียหายต่อชั้นเมมเบรนมีน้อย

แสดงพันธะเมมเบรนที่ดี

แสดงความบริสุทธิ์ของฟิล์มสูง ความหนาแน่นที่ดี ความสม่ำเสมอของฟิล์มที่ดี

แสดงความสามารถในการทำซ้ำได้ดี

ด่วน เหมาะสำหรับวัสดุที่หลากหลาย

ด่วน ง่ายต่อการตระหนักถึงอุตสาหกรรม;

express องค์ประกอบของชั้นฟิล์มใกล้เคียงกับวัสดุเป้าหมาย

ด่วน ฟิล์มเคลือบอย่างดี

แสดง อคติเชิงลบถูกนำไปใช้กับชิ้นงาน

เทคนิคการกำหนดเป้าหมายแบบด่วนแบบคอมโพสิต