ภาพรวมผลิตภัณฑ์
อุปกรณ์ฟิล์มบางสำหรับการระเหยลำแสงอิเล็กตรอนนี้ได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมเพื่อการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) ที่มีความแม่นยำสูง- ด้วยการใช้ลำแสงอิเล็กตรอนพลังงานสูง-ที่เน้นไปที่วัสดุต้นทางที่ระดมยิง ระบบจึงได้รับอัตราการระเหยสูงสำหรับโลหะที่มีจุดหลอมเหลว-สูง ออกไซด์ และวัสดุอิเล็กทริก
ระบบสร้างขึ้นบนสถาปัตยกรรมสุญญากาศแบบโมดูลาร์ โดยสามารถรองรับปืนอิเล็กตรอนหลาย-พ็อกเก็ต การติดตั้งวัสดุพิมพ์ที่ปรับแต่งได้ และ-การตรวจสอบแหล่งกำเนิดขั้นสูง ให้บริการในห้องปฏิบัติการ R&D และสายการผลิตที่มีปริมาณงานสูง-ซึ่งต้องมีการควบคุมที่เข้มงวดในด้านปริมาณสัมพันธ์ของฟิล์ม การยึดเกาะ และประสิทธิภาพด้านการมองเห็น
-
อุปกรณ์การระเหยลำแสงอิเล็กตรอนสุญญากาศสูงระบบการระเหยลำแสงอิเล็กตรอนสุญญากาศสูงซีรีส์ EBE- สะสมฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูง-สำหรับการใช้งานด้านแสง เซมิคอนดักเตอร์ และโลหะวิทยา...ดูเพิ่มเติม
-
ระบบการสะสมฟิล์มบางของลำแสงอิเล็กตรอนระบบการสะสมฟิล์มบางของลำแสงอิเล็กตรอนให้การประมวลผล PVD ที่มีความบริสุทธิ์สูง-ในทิศทางสำหรับการวิจัยขั้นสูงและการผลิตทางอุตสาหกรรม...ดูเพิ่มเติม
-
อุปกรณ์ระเหยสูญญากาศลำแสงอิเล็กตรอนระบบการระเหยสูญญากาศด้วยลำแสงอิเล็กตรอนนี้ดำเนินการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) ของโลหะที่มีจุดหลอมเหลว-สูง- ออกไซด์ และไดอิเล็กทริก...ดูเพิ่มเติม
-
อุปกรณ์การสะสมฟิล์มบางของลำแสงอิเล็กตรอนระบบสะสมลำอิเล็กตรอนอุตสาหกรรมนี้ใช้ปืนอิเล็กตรอนที่เน้นสนามแม่เหล็ก (3 kW ถึง 15 kW) เพื่อส่งพลังงานความหนาแน่นสูง-ไปยังเตาทองแดง{3}}ที่ระบายความร้อนด้วยน้ำ...ดูเพิ่มเติม
-
ระบบฟิล์มบางระเหยลำแสงอิเล็กตรอนระบบการระเหยลำแสงอิเล็กตรอนซีรีส์ EBE- ได้รับการออกแบบมาเพื่อการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) ของโลหะที่มีจุดหลอมเหลวสูง-จุด- ไดอิเล็กทริก และวัสดุเชิงแสง...ดูเพิ่มเติม
-
อุปกรณ์ฟิล์มบางระเหยลำแสงอิเล็กตรอนซีรีส์ EBE-V600 เป็นแพลตฟอร์ม-การสะสมไอทางกายภาพ (PVD) ระดับอุตสาหกรรมที่ออกแบบมาสำหรับการเคลือบฟิล์มบาง-ที่แม่นยำของส่วนประกอบทางแสง อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ และวัสดุขั้นสูง...ดูเพิ่มเติม
ข้อมูลจำเพาะทางเทคนิค
|
พารามิเตอร์ |
ช่วงข้อมูลจำเพาะ |
หมายเหตุ / การกำหนดค่ามาตรฐาน |
|
แรงดันฐานขั้นสูงสุด |
< 5.0 × 10^-6 Pa |
ได้มาจากกลุ่มปั๊มโมเลกุลแบบไครโอเจนิกหรือเทอร์โบ- |
|
ขนาดห้อง |
ปรับแต่งได้ (เส้นผ่านศูนย์กลางภายใน 500 มม. ถึง 1200 มม.) |
เหล็กกล้าไร้สนิม 304L / 316L ขัดด้วยไฟฟ้า- |
|
E-พิกัดกำลังปืน |
6 kW ถึง 15 kW (เครื่องกำเนิดไฟฟ้าแบบหลายช่อง-) |
การโก่งตัวของลำแสงที่ตั้งโปรแกรมได้และการจัดทำดัชนีถ้วยใส่ตัวอย่างหลาย- |
|
อัตราการสะสม |
0.1 นาโนเมตร/วินาที ถึง 10 นาโนเมตร/วินาที |
การควบคุมลูป-เวลาปิด-แบบเรียลไทม์ผ่านจอภาพคริสตัลควอตซ์ |
|
ความสม่ำเสมอของความหนาของฟิล์ม |
< ±1% to ±2% across standard substrates |
อุปกรณ์ยึดพื้นผิวดาวเคราะห์หรือโดมพร้อมการหมุนความเร็วตัวแปร |
|
อุณหภูมิพื้นผิว |
โดยรอบถึง 800 องศา |
การทำความร้อนแบบกระจายแบบบูรณาการพร้อมการตอบสนองความร้อนแบบ PID |
คุณสมบัติของอุปกรณ์ที่สำคัญ
ปืนอิเล็กตรอนความเสถียรสูง-:
นำเสนอการโก่งตัวของแม่เหล็กและการโฟกัสหลาย-จุดเพื่อป้องกันความร้อนสูงเกินไปของวัสดุต้นทาง และกำจัดการคายน้ำระหว่างการระเหยของปฏิกิริยา
การออกแบบเบ้าหลอมแบบแยกส่วน:
มีเตาแบบถอดเปลี่ยนได้ขนาดพกพา 4 ถึง 6- เตา ช่วยให้สามารถสะสมหลายชั้นได้โดยไม่ทำให้สุญญากาศแตก
การเชื่อมต่อสูญญากาศขั้นสูง:
วาล์วนิวแมติกที่ควบคุมโดย PLC- การหยาบแบบอัตโนมัติ/ลำดับสุญญากาศสูง- และอินเทอร์ล็อคช่วยป้องกันความล้มเหลวของน้ำหล่อเย็นและความผิดปกติของพลังงาน
ห้องปนเปื้อน-ต่ำ:
แผงป้องกันภายในใช้สเตนเลสสตีลขัดเงาด้วยไฟฟ้า-พร้อมแผ่นรองที่ถอดออกได้เพื่อลดอนุภาคและบำรุงรักษาได้อย่างรวดเร็ว
วัสดุฟิล์มและพื้นผิว
วัสดุระเหยที่เข้ากันได้
โลหะ: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
ไดอิเล็กทริกและออกไซด์: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO
ประเภทของพื้นผิว
เวเฟอร์ซิลิคอน (2 นิ้วถึง 12 นิ้ว)
พื้นผิวแก้วแสง ซิลิกาผสม และควอตซ์
ฟิล์มโพลีเมอร์ที่มีความยืดหยุ่น (โพลีอิไมด์, PET ผ่านม้วน-ถึง-โมดูลม้วน)
พื้นผิวเซรามิก (Al2O3, AlN)
การใช้งาน

การเคลือบด้วยแสง:
การเคลือบป้องกัน-แสงสะท้อน (AR) ฟิลเตอร์-แถบแคบ และกระจกสะท้อนแสงสูง-สำหรับระบบเลเซอร์และโฟโตนิกส์

อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์:
การสร้างหน้าสัมผัสแบบโอห์มมิก การทำให้เป็นโลหะของเกท และการประมวลผลการยก{0}}สำหรับไมโครอิเล็กทรอนิกส์

ออปโตอิเล็กทรอนิกส์:
ชั้นออกไซด์นำไฟฟ้าโปร่งใส (TCO) และฟิล์มบางสำหรับจอแสดงผล OLED และเซลล์แสงอาทิตย์

การวิจัยและพัฒนาขั้นสูง:
ชั้นแม่เหล็กแบบฟิล์มบาง-เชิงสำรวจ ฟิล์มตัวนำยิ่งยวด และโครงสร้างเฮเทอโรโครงสร้างหลาย-ชั้น
การปรับแต่งและการกำหนดค่าระบบ
ระบบฟิล์มบาง-ทุกระบบได้รับการกำหนดค่าให้ตรงกับสูตรกระบวนการเฉพาะและเค้าโครงของโรงงาน การดัดแปลงทางวิศวกรรมที่มีอยู่ ได้แก่ :
การเลือกกองสูบน้ำ:
ปั๊มโมเลกุล-เทอร์โบ (TMP) ไครโอปั๊ม หรือรูปแบบการแพร่กระจายน้ำมัน-ที่ปรับให้เหมาะกับความต้องการสุญญากาศพื้นฐานและปริมาณงาน
โหลด-การรวมการล็อค:
โหลดด้วยตนเอง-หรือระบบคลัสเตอร์หลาย-แบบอัตโนมัติเพื่อรักษาความสมบูรณ์ของสุญญากาศสูงเป็นพิเศษ- และเพิ่มปริมาณงานของเวเฟอร์
ใน-มาตรวิทยาแหล่งกำเนิด:
พอร์ตบูรณาการสำหรับเครื่องรีลิปโซมิเตอร์สเปกโทรสโกปี เครื่องมอนิเตอร์แบบออปติคอล หรือเครื่องวิเคราะห์ก๊าซตกค้าง (RGA)
ซอฟต์แวร์ควบคุม:
อินเทอร์เฟซ PLC/HMI ที่เป็นเอกสิทธิ์พร้อมการจัดเก็บสูตรอาหาร การบันทึกข้อมูล และโปรโตคอลการสื่อสาร SECS/GEM สำหรับการบูรณาการในโรงงานอัจฉริยะ
การผลิตและการควบคุมคุณภาพ
การผลิตเรือ:
ห้องสุญญากาศทั้งหมดผ่านการทดสอบการรั่วของมวลสเปกโตรมิเตอร์ฮีเลียมโดยมีเกณฑ์การปฏิเสธ < 1 × 10^-9 Pa·m³/s
ความซื่อสัตย์ในการเชื่อม:
การเชื่อม TIG ดำเนินการภายใต้การป้องกันก๊าซเฉื่อย ตามด้วยการทู่พื้นผิวภายในและการขัดเงาเชิงกลเพื่อลดก๊าซที่ปล่อยออกมา
การทดสอบการยอมรับจากโรงงาน (FAT):
การทดสอบการทำงานแบบแห้งต่อเนื่อง-ชั่วโมงเป็นเวลา 72- ชั่วโมงโดยวัดเส้นโค้งการสูบน้ำ ความแม่นยำในการกวาดของ e-gun เวลาตอบสนองของอินเตอร์ล็อค และความเสถียรทางความร้อนก่อนที่จะทำลัง
การปฏิบัติตามและมาตรฐาน:
ผลิตภายใต้ระบบการจัดการคุณภาพที่ได้รับการรับรองมาตรฐาน ISO 9001 พร้อมระบบที่ได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมเพื่อให้เป็นไปตามคำสั่ง CE และแนวทางด้านความปลอดภัยและการยศาสตร์ของ SEMI (S2/S8) ที่เกี่ยวข้อง
คำถามที่พบบ่อย
เรา{0}}เป็นที่รู้จักดีในฐานะหนึ่งในผู้ผลิตและซัพพลายเออร์อุปกรณ์ฟิล์มบางสำหรับการระเหยลำแสงอิเล็กตรอนชั้นนำในประเทศจีน หากคุณกำลังจะซื้ออุปกรณ์ฟิล์มบางระเหยลำแสงอิเล็กตรอนแบบกำหนดเองที่ผลิตในประเทศจีน ยินดีรับรายการราคาจากโรงงานของเรา หากต้องการคำปรึกษาด้านราคา โปรดติดต่อเรา
