ภาพรวมผลิตภัณฑ์
อุปกรณ์ชุบไอออนแบบหลาย-ทางอุตสาหกรรมที่ออกแบบมาเพื่อการเคลือบแข็ง ฟิล์มเชิงฟังก์ชัน และการเคลือบ PVD สำหรับตกแต่งบนส่วนประกอบที่มีความแม่นยำ ด้วยการใช้การปล่อยอาร์กสุญญากาศแรงดันสูง-ในปัจจุบันและต่ำ- ระบบจะระเหยวัสดุเป้าหมายที่เป็นของแข็ง (Ti, Cr, Al, Zr) โดยตรง เมื่อรวมกับก๊าซที่เกิดปฏิกิริยา (N2, O2, C2H2) จะสังเคราะห์ไนไตรด์ คาร์ไบด์ และออกไซด์ของโลหะทรานซิชันหนาแน่นลงบนพื้นผิวโลหะโดยตรง
โซลูชัน PVD แบบครบวงจรนี้สร้างขึ้นบนสถาปัตยกรรมห้องสุญญากาศแบบโมดูลาร์ รองรับขนาดการผลิตที่แตกต่างกัน-ตั้งแต่การประมวลผลเป็นชุดด้านการวิจัยและพัฒนา ไปจนถึงการผลิตแบบอินไลน์อัตโนมัติที่มีปริมาณงานสูง- ระบบได้รับการปรับให้เหมาะสมเพื่อการใช้ประโยชน์ตามเป้าหมายที่สูงและต้นทุนรวมในการเป็นเจ้าของ (TCO) ต่ำในสภาพแวดล้อมทางอุตสาหกรรมที่ต่อเนื่องตลอด 24 ชั่วโมงทุกวัน
-
![อุปกรณ์หลาย-อาร์กสะสมสุญญากาศ]()
อุปกรณ์หลาย-อาร์กสะสมสุญญากาศระบบการสะสมสูญญากาศแบบหลาย-อาร์กนี้ใช้เทคโนโลยีการชุบอาร์คไอออนแบบแคโทดิกเพื่อเคลือบสารเคลือบแข็งที่มีความหนาแน่นสูง-การยึดเกาะสูงบนพื้นผิวโลหะและอโลหะ-...ดูเพิ่มเติม -
![ระบบการสะสมอาร์คไอออนหลาย-]()
ระบบการสะสมอาร์คไอออนหลาย-The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >การแตกตัวเป็นไอออน 80%...ดูเพิ่มเติม -
![อุปกรณ์ฟิล์มบางแบบอาร์ค PVD แบบหลาย-]()
อุปกรณ์ฟิล์มบางแบบอาร์ค PVD แบบหลาย-ระบบ Multi-Arc PVD สำหรับงานอุตสาหกรรมใช้การสะสมไอทางกายภาพของอาร์คแคโทดิกไอออไนเซชันสูง-เพื่อฝากชั้นเคลือบแข็งที่มีปริมาณสัมพันธ์หนาแน่น (เช่น TiN, TiAlN, CrN และ DLC) ลงบนพื้นผิวโลหะ...ดูเพิ่มเติม -
![อุปกรณ์หลาย-การสะสมอาร์คไอออน]()
อุปกรณ์หลาย-การสะสมอาร์คไอออนระบบการสะสมอาร์คไอออนแบบหลาย-ทางอุตสาหกรรมสร้างฟิล์มบางที่มีความหนาแน่น-การยึดเกาะสูง ผ่านการระเหยอาร์กแคโทดิกแรงดันไฟฟ้าสูง-กระแสต่ำ- วัสดุเป้าหมายที่เป็นของแข็ง (แคโทด)...ดูเพิ่มเติม -
![ระบบฟิล์มบางอาร์คไอออนบางแบบหลาย-]()
ระบบฟิล์มบางอาร์คไอออนบางแบบหลาย-ระบบฟิล์มบางอาร์คไอออนบางระดับอุตสาหกรรมใช้การระเหยของอาร์คแคโทดเพื่อฝากการเคลือบเซรามิกและโลหะที่มีความหนาแน่นสูง-การยึดเกาะสูงไว้บนพื้นผิวโลหะและโลหะผสม...ดูเพิ่มเติม -
![อุปกรณ์ฟิล์มบางอาร์คไอออนบางหลาย-]()
อุปกรณ์ฟิล์มบางอาร์คไอออนบางหลาย-ระบบการชุบไอออนแบบหลาย-อาร์กนี้ใช้การระเหยของอาร์คแคโทดเพื่อสะสมชั้นเคลือบแข็งที่มีความหนาแน่น-การยึดเกาะสูง และฟิล์มบางที่ใช้งานได้...ดูเพิ่มเติม
ข้อมูลจำเพาะทางเทคนิค
|
พารามิเตอร์ |
ช่วงข้อมูลจำเพาะ |
หน่วย/หมายเหตุ |
|
ขนาดห้อง |
Ф600 x 600 ถึง Ф1500 x 1800 |
มม. (การกำหนดค่าแนวตั้งหรือแนวนอนแบบกำหนดเอง) |
|
สุดยอดแรงดันสุญญากาศ |
<= 5.0 x 10^-4 |
Pa (ปั๊มแห้ง + เทอร์โบ-โมเลกุล / ชุดการแพร่กระจายน้ำมัน) |
|
แหล่งกำเนิดแคโทดอาร์ค |
4 ถึง 16 ยูนิต |
แหล่งกำเนิดอาร์คที่ควบคุมหรือกรองด้วยแม่เหล็กไฟฟ้า (FCA) |
|
พลังอคติของพื้นผิว |
0 ถึง -1,000 |
V (ความสามารถอคติ DC / MF แบบพัลซ์ขั้นสูง) |
|
อุณหภูมิความร้อน |
อุณหภูมิห้องถึง 600 |
C (เครื่องทำความร้อนแบบกระจายที่ควบคุมด้วย PID) |
|
ความสม่ำเสมอของการสะสม |
<= +/- 5% |
วัดโดย XRF ทั่วทั้งโซนการทำงานที่มีประสิทธิภาพ |
|
ระบบควบคุม |
PLC + พีซีอุตสาหกรรม |
การดำเนินการตามสูตรอัตโนมัติ การบันทึกข้อมูล SCADA |
|
ความปลอดภัยและการปฏิบัติตามข้อกำหนด |
ซีอี, ISO 9001 |
ตู้ไฟฟ้าที่ตรงตามมาตรฐาน UL- มีให้บริการตามคำขอ |
ลำดับการสะสมไอทางกายภาพทำงานบน-ขั้นตอนการทำงานอัตโนมัติแบบลูปปิดที่เข้มงวด เพื่อให้แน่ใจถึงความสามารถในการทำซ้ำแบบแบทช์-ถึง-:
การอพยพและการปล่อยก๊าซออก:
ห้องสุญญากาศจะถูกสูบลงไปที่ความดันพื้นฐานที่<= 5.0 x 10^-3 Pa, while substrate temperatures are ramped to eliminate surface volatiles.
การแกะสลักด้วยพลาสมา (การทิ้งระเบิด):
มีการแนะนำก๊าซอาร์กอน ความลำเอียงเชิงลบสูงถูกนำไปใช้กับตัวจับยึดซับสเตรต ทำให้เกิดไอออน Ar ที่จะโจมตีพื้นผิวเพื่อพ่นออกไซด์ดั้งเดิมและสิ่งปนเปื้อนขนาดเล็ก-ออกไป
การระเหยอาร์กและการแตกตัวเป็นไอออน:
กระแสไฟฟ้ากระแสตรงส่วนโค้งกระทบกับแคโทดโลหะแข็ง จุดแคโทดเฉพาะจุดมีความหนาแน่นของพลังงานสูง ทำให้วัสดุเป้าหมายระเหยกลายเป็นกระแสพลาสมาความหนาแน่นสูง-ทันที (อัตราการแตกตัวเป็นไอออน > 80%)
การสะสมปฏิกิริยา:
ก๊าซที่เกิดปฏิกิริยาจะถูกฉีดเข้าไปในพลาสมาฟลักซ์ที่ความดันบางส่วนที่ควบคุมอย่างแม่นยำผ่านตัวควบคุมการไหลของมวล (MFC) ทำให้เกิดฟิล์มสารประกอบปริมาณสัมพันธ์บนพื้นผิวที่หมุน
ระบายความร้อนและการระบายอากาศ:
การระบายความร้อนที่ควบคุมได้เกิดขึ้นภายใต้การป้องกันก๊าซเฉื่อยก่อนการระบายอากาศในห้อง ป้องกันการเกิดออกซิเดชันของชิ้นส่วนที่เคลือบใหม่
วัสดุฟิล์มและคุณสมบัติการเคลือบ
ระบบสนับสนุนการจัดเรียงแคโทดโลหะหลาย- ทำให้สามารถใช้สถาปัตยกรรมฟิล์มชั้นเดียว หลายชั้น นาโน- และฟิล์มไล่ระดับสี:
TiN (ไทเทเนียมไนไตรด์):
เคลือบทองมาตรฐาน ความแข็ง 2200–2400 HV; ค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทาน 0.4 การใช้งานหลัก: เครื่องมือตัดทั่วไปและชิ้นส่วนที่สึกหรอทางกล
TiAlN (ไทเทเนียม อลูมิเนียม ไนไตรด์):
ต้านทานการเกิดออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูง-สูงถึง 850 C; ความแข็ง 3,000–3300 HV. การใช้งานหลัก: เม็ดมีดและวาล์วเครื่องยนต์สำหรับการตัดเฉือนความเร็วสูง-
CrN / CrAlN (โครเมียมไนไตรด์):
ทนต่อการกัดกร่อนได้ดีเยี่ยมและความเค้นภายในต่ำ คุณสมบัติป้องกัน-การยึดกับโลหะที่ไม่ใช่เหล็ก- การใช้งานหลัก: การขึ้นรูปแม่พิมพ์ แหวนลูกสูบ และส่วนประกอบเครื่องจักรสิ่งทอ
ZrN / TiCN:
ความหยาบผิวต่ำ (Ra<= 0.05 um); decorative stability and biocompatibility. Primary use: medical surgical instruments and premium sanitary hardware.
การใช้งาน
เครื่องมือตัดที่แม่นยำ:
ดอกเอ็นมิล ดอกสว่าน หัวเตา และเม็ดมีดแบบเปลี่ยนเม็ดมีดได้ ซึ่งต้องการอายุการใช้งานเครื่องมือที่ยาวนานขึ้นภายใต้ภาระความร้อนสูง
01
ระบบส่งกำลังของยานยนต์:
หมุดลูกสูบ ก้านกระทุ้ง ส่วนประกอบการฉีดเชื้อเพลิง และพื้นผิวเฟือง ที่ต้องการลดแรงเสียดทานของขอบเขตและความต้านทานการครูด
02
แม่พิมพ์และแม่พิมพ์:
แม่พิมพ์ฉีดพลาสติก แม่พิมพ์ปั๊ม และเม็ดมีด-การหล่อที่ต้องการความต้านทานต่อการสึกหรอของกาวและความล้าจากความร้อน
03
ส่วนประกอบการบินและอวกาศ:
ใบพัดกังหันและตัวยึดไทเทเนียมทำงานภายใต้สภาพแวดล้อมที่มีการกัดกร่อนรุนแรงและมีความเครียดสูง-
04
การปรับแต่งและการกำหนดค่าระบบ
รายการแค็ตตาล็อกมาตรฐานไม่ค่อยเหมาะกับเค้าโครงของโรงงานโดยเฉพาะ การกำหนดค่าอุปกรณ์ได้รับการปรับแต่งตามรูปทรงของส่วนประกอบเฉพาะ เป้าหมายรอบเวลา และข้อจำกัดของสิ่งอำนวยความสะดวก:
เรขาคณิตของห้อง:
ห้องสแตนเลสทรงแปดเหลี่ยมหรือทรงกระบอก (SUS304/SUS316L) มีแจ็คเก็ตระบายความร้อน-ผนังน้ำ-สองชั้น
เค้าโครงแหล่งที่มา:
Side-mounted or bottom-driven arc sources with magnetic steering coils to minimize macroparticle generation and ensure high cathode utilization (>60%).
การยึดพื้นผิว:
การหมุนของดาวเคราะห์ (3- แกน) หรือกลไกการหมุนเดี่ยวที่ขับเคลื่อนโดยการป้อนผ่านของไหลแม่เหล็กเพื่อรับประกันการครอบคลุมการเคลือบที่สม่ำเสมอบนรูปทรงเรขาคณิต 3 มิติที่ซับซ้อน
ตัวเลือกกองปั๊ม:
โบลเวอร์แบบรูท ปั๊มใบพัดโรตารี ปั๊มไครโอเจนิก หรือปั๊มเทอร์โบโมเลกุลที่กำหนดค่าให้ตรงตามรอบเวลาดาวน์ไซเคิลที่เข้มงวดของปั๊ม-
โปรโตคอลการควบคุมคุณภาพและการทดสอบ
เครื่องจักรทุกเครื่องผ่านการทดสอบการยอมรับจากโรงงาน (FAT) อย่างเข้มงวดก่อนจัดส่ง โดยมีเอกสารประกอบเพื่อการตรวจสอบของผู้ซื้อ:
01
การทดสอบความสมบูรณ์ของสุญญากาศ:
การตรวจจับการรั่วไหลของฮีเลียมโดยใช้แมสสเปกโตรเมทรี (อัตราการรั่วไหล<= 1 x 10^-10 Pa*m3/s).
02
ความปลอดภัยทางไฟฟ้าและการเผา-ใน:
จ่ายไฟให้แห้งต่อเนื่อง 72 ชั่วโมง อินเตอร์ล็อคระบายความร้อนด้วยน้ำ และตรรกะอัตโนมัติของ PLC
03
การตรวจสอบการเคลือบ (-ห้องปฏิบัติการในบริษัท):
การทดสอบตัวอย่างผ่านการทดสอบ Calo- (ความหนาของฟิล์ม) การเยื้องแบบร็อกเวลล์ (ความแข็งแรงในการยึดเกาะ) และการเยื้องระดับนาโน (ความแข็ง)
การติดตั้ง การว่าจ้าง และการสนับสนุนทางเทคนิค
แนวทางการเตรียมสถานที่:
แบบผังอรรถประโยชน์โดยละเอียดสำหรับการไหลของน้ำหล่อเย็น/แรงดัน อากาศอัด การระบายอากาศเสีย และข้อกำหนดบัสบาร์ไฟฟ้า
SAT และการว่าจ้าง:
ใน-การติดตั้งที่ไซต์งาน (การทดสอบการยอมรับไซต์) การสอบเทียบแบบสุญญากาศ และการส่งมอบสูตรพื้นฐานที่ดำเนินการโดยวิศวกรกระบวนการ PVD อาวุโส
การฝึกอบรมกระบวนการ:
การฝึกอบรม-ผู้ปฏิบัติงานโดยครอบคลุมตารางการเปลี่ยนแคโทด การบำรุงรักษาสุญญากาศเชิงป้องกัน การแก้ปัญหา และการเพิ่มประสิทธิภาพสูตรพื้นฐาน
การสนับสนุนชิ้นส่วนอะไหล่:
ส่วนประกอบที่สึกหรอที่สำคัญ (แคโทด แผงป้องกัน ฉนวน และซีล) มีสต็อกไว้เพื่อจัดส่งทั่วโลกภายใน 48 ชั่วโมง
คำถามที่พบบ่อย
เรา{0}}เป็นที่รู้จักดีว่าเป็นหนึ่งในผู้ผลิตและซัพพลายเออร์อุปกรณ์ฟิล์มบางอาร์คไอออนหลาย-ชั้นนำในประเทศจีน หากคุณกำลังจะซื้ออุปกรณ์ฟิล์มบางหลาย-อาร์คไอออนแบบกำหนดเองที่ผลิตในประเทศจีน ยินดีรับรายการราคาจากโรงงานของเรา หากต้องการคำปรึกษาด้านราคา โปรดติดต่อเรา
