ภาพรวมผลิตภัณฑ์

 

อุปกรณ์ฟิล์มบางคอมโพสิต PVD เป็นแพลตฟอร์มการสะสมสูญญากาศทางอุตสาหกรรมที่ออกแบบมาเพื่อการฝากฟิล์มบางหลาย- โลหะผสม และนาโนคอมโพสิต ด้วยการผสานรวมแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งและแหล่งกำเนิดอาร์คแคโทดภายในห้องสุญญากาศเดียว ระบบนี้ช่วยให้สามารถควบคุมโครงสร้างจุลภาคของฟิล์ม ความเค้นตกค้าง และการยึดเกาะระหว่างผิวได้อย่างแม่นยำ สร้างขึ้นเพื่อการผลิตอย่างต่อเนื่องและการวิจัยและพัฒนาขั้นสูง แพลตฟอร์มนี้รองรับพื้นผิวโลหะ เซรามิก และโพลีเมอร์พร้อมรูปทรงห้องที่ปรับขนาดได้

 
  • อุปกรณ์การสะสมสูญญากาศคอมโพสิต PVD
    แพลตฟอร์มการสะสมสูญญากาศแบบคอมโพสิต PVD ทางอุตสาหกรรมนี้รวมเอาเทคนิคการสะสมหลายแบบไว้ในสภาพแวดล้อมแบบห้องเดียวเพื่อสะสมฟิล์มบางที่เป็นโลหะ หลาย-ชั้น โลหะผสม หรือไดอิเล็กตริกที่สม่ำเสมอ...
    ดูเพิ่มเติม
  • ระบบการสะสมฟิล์มบางแบบไฮบริด PVD
    ระบบการตกสะสมฟิล์มบางแบบไฮบริด PVD ผสมผสานการระเหยด้วยความร้อน การระเหยของลำอิเล็กตรอน (อี{0}}ลำ) และการสปัตเตอร์แมกนีตรอน RF/DC ภายในสถาปัตยกรรมสุญญากาศเดียว...
    ดูเพิ่มเติม
  • PVD Multi-อุปกรณ์แปรรูปฟิล์มบาง
    อุปกรณ์ฟิล์มบางสำหรับกระบวนการ PVD Multi- เป็นแพลตฟอร์มการสะสมสูญญากาศแบบบูรณาการที่ออกแบบมาเพื่อรวมเทคนิคการผลิตฟิล์มบาง-หลายอย่าง ซึ่งรวมถึง RF/DC Magnetron Sputtering การระเหยด้วยความร้อน...
    ดูเพิ่มเติม
  • อุปกรณ์การสะสมคอมโพสิต PVD
    อุปกรณ์การสะสมคอมโพสิต PVD อุตสาหกรรมได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมสำหรับการผลิตฟิล์มคอมโพสิตบาง-หลาย-ส่วนประกอบ หลาย-ชั้น และนาโน- ระบบรวมการระเหยด้วยความร้อน การระเหยของลำแสง e-...
    ดูเพิ่มเติม
  • ระบบฟิล์มบางคอมโพสิต PVD
    ระบบเคลือบสูญญากาศระดับอุตสาหกรรม-ที่ผสานการสปัตเตอร์แมกนีตรอน (RF/DC/HiPIMS) และการระเหยอาร์คแคโทด ออกแบบมาเพื่อการสะสมฟิล์มบาง-หลายชั้น โลหะผสม และนาโน-คอมโพสิตบาง-อย่างต่อเนื่องในระดับการผลิต
    ดูเพิ่มเติม
  • อุปกรณ์ฟิล์มบางคอมโพสิต PVD
    อุปกรณ์ฟิล์มบางคอมโพสิต PVD เป็นแพลตฟอร์มสูญญากาศทางอุตสาหกรรมที่ออกแบบมาเพื่อสังเคราะห์ฟิล์มบางหลาย- โลหะผสม และเกรด สร้างขึ้นบนสถาปัตยกรรมสเตนเลสสตีล 304L/316L แบบโมดูลาร์...
    ดูเพิ่มเติม
 
ข้อมูลจำเพาะทางเทคนิค

 

พารามิเตอร์

ช่วงข้อมูลจำเพาะ

สุดยอดแรงดันสุญญากาศ

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

ความดันการทำงาน

0.1 ป่า - 5.0 ป่า

อุณหภูมิพื้นผิว

สภาพแวดล้อมถึง 800 องศา (ควบคุม PID แบบลูปปิด)

แหล่งที่มาของการสะสม

กำหนดค่าได้: DC/RF Magnetron Sputtering, Pulsed DC, Filtered Cathodic Arc

ความสม่ำเสมอของความหนา

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

วัสดุห้อง

เหล็กกล้าไร้สนิม 304L/316L กราวด์เชิงกล และขัดเงาด้วยไฟฟ้า- (Ra<= 0.4 um)

การรวมพาวเวอร์ซัพพลาย

เครื่องกำเนิดไฟฟ้า MF (10-100 kHz), เครื่องกำเนิด RF (13.56 MHz), ไบแอส DC แบบพัลซ์

ระบบควบคุม

PLC อุตสาหกรรม + IPC พร้อมการดำเนินการตามสูตรอัตโนมัติ การตรวจสอบการเชื่อมต่อ และการบันทึกข้อมูลเป็นชุด

 

กระบวนการสะสมคอมโพสิต

ระบบใช้สถาปัตยกรรมการสะสมไอทางกายภาพแบบไฮบริดที่ผสมผสานเทคโนโลยีแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งและเทคโนโลยีแคโทดิกอาร์ก

การทำงานร่วมกันจากหลากหลาย-:

การทำงานพร้อมกันหรือต่อเนื่องกันของแคโทดหลายตัวช่วยให้สามารถเปลี่ยนแปลงองค์ประกอบภาพอย่างฉับพลันหรือให้คะแนนทั่วทั้งกองฟิล์มได้

 

การกัดไอออนเบื้องต้น-การทำความสะอาด:

ขั้นตอนการทำความสะอาดพลาสมา RF หรือ DC จะกำจัดออกไซด์ดั้งเดิมและสิ่งปนเปื้อนบนพื้นผิวก่อนที่จะสะสมเพื่อเพิ่มการเคลือบสูงสุด-เพื่อ-การยึดเกาะของพื้นผิว

การควบคุมการสะสมปฏิกิริยา:

ออพติคอลการปล่อยสเปกโทรสโกปี (OES) แบบลูปปิด-ควบคุมการฉีดก๊าซปฏิกิริยา (O2, N2, C2H2) เพื่อรักษาปริมาณสารสัมพันธ์ของสารประกอบให้เสถียรและป้องกันพิษจากเป้าหมาย

การให้น้ำหนักพื้นผิว:

การจ่ายพลังงานแบบพัลซ์ไบแอสแบบซิงโครไนซ์จะระดมไอออนพลังงานสูง-ให้กับฟิล์มที่กำลังเติบโต ทำให้โครงสร้างจุลภาคมีความหนาแน่นขึ้น และปรับแต่งความเค้นอัดที่ตกค้าง

 

วัสดุฟิล์ม

อุปกรณ์นี้รองรับวัสดุเป้าหมายที่หลากหลายสำหรับความต้องการด้านการทำงานที่ปรับให้เหมาะสม:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

ทรานซิชั่นโลหะไนไตรด์และคาร์ไบด์:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN สำหรับความต้านทานการสึกหรอและการกัดกร่อน

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

ระบบนาโนคอมโพสิตและหลายชั้น:

TiSiN, AlTiSiN, ชั้นนาโนของโลหะ/เซรามิกสำหรับความแข็งขั้นสุดและความเสถียรทางความร้อนที่อุณหภูมิสูง-

 
PVD Composite Thin Film System

ออกไซด์นำไฟฟ้าแบบโปร่งใส (TCO):

ITO, AZO, IGZO สำหรับการใช้งานด้านออปโตอิเล็กทรอนิกส์และไฟฟ้าโซลาร์เซลล์

 
PVD Composite Thin Film Equipment

โลหะบริสุทธิ์และโลหะผสม:

Ti, Cr, Al, Cu, เหล็กกล้าไร้สนิม, NiCr สำหรับชั้นหน้าสัมผัสทางไฟฟ้าและชั้นกั้นการแพร่กระจาย

 
การใช้งาน
 
 
 

เครื่องมือตัดที่แม่นยำ:

การสะสมของสารเคลือบที่มีแรงเสียดทานต่ำ-แข็งเป็นพิเศษ- (เช่น TiAlN) บนเม็ดมีดคาร์ไบด์ ดอกสว่าน และดอกเอ็นมิลล์- เพื่อยืดอายุการใช้งานการทำงานภายใต้ภาระความร้อนสูง

 
 

ส่วนประกอบยานยนต์:

ฟิล์มต้านทาน-การลดและการสึกหรอ-บนแหวนลูกสูบ ชิ้นส่วนการฉีดเชื้อเพลิง และชุดเกียร์

 
 

ออปโตอิเล็กทรอนิกส์และจอแสดงผล:

ชั้นออกไซด์นำไฟฟ้าที่มีการส่งผ่านต่ำ- สูง-สำหรับแผงสัมผัสและพื้นผิวเซลล์แสงอาทิตย์

 
 

อุปกรณ์การแพทย์:

สารเคลือบที่เข้ากันได้ทางชีวภาพและ{0}}ทนต่อการสึกหรอบนเครื่องมือผ่าตัดและการปลูกถ่ายกระดูกและข้อ

 

 

การปรับแต่งและการกำหนดค่าระบบ

การกำหนดค่าทางวิศวกรรมได้รับการปรับให้เข้ากับข้อจำกัดของโรงงานผลิตเฉพาะและสูตรกระบวนการ:

ขนาดห้อง:

ตัวเลือกห้องทรงกระบอกหรือสี่เหลี่ยมตั้งแต่ระบบแบทช์ R&D (เส้นผ่านศูนย์กลาง 500 มม.) ไปจนถึง-ระบบล็อคปริมาณการผลิตขนาดใหญ่- (1000 มม.+)

01

การเลือกชุดสูบน้ำ:

การจับคู่รูทโบลเวอร์ ปั๊มเทอร์โบโมเลกุล และปั๊มไครโอเจนิกโดยอิงตาม{0}เวลาหยุดทำงานของปั๊มและโปรไฟล์ปริมาณก๊าซที่ต้องการ

02

การยึดพื้นผิว:

ระยะการหมุนของดาวเคราะห์ที่กำหนดเอง การหมุนของดาวเทียม 3- แกน หรือโมดูลการหมุน-ที่ออกแบบมาสำหรับเรขาคณิต 3 มิติที่ซับซ้อนหรือรางต่อเนื่อง

03

ระดับอัตโนมัติ:

การกำหนดค่าโหลดด้วยตนเองแบบกึ่ง-อัตโนมัติหรือระบบถ่ายเทสุญญากาศอัตโนมัติเต็มรูปแบบพร้อมการจัดการวัสดุพิมพ์แบบหุ่นยนต์

04

 

การผลิตและการควบคุมคุณภาพ
 

การตรวจจับการรั่วไหล:

ห้องสุญญากาศทุกห้องผ่านการทดสอบการรั่วของมวลฮีเลียมสเปกโตรมิเตอร์ที่เกณฑ์ < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s

การตรวจสอบการเชื่อม:

รอยเชื่อมด้านข้างสุญญากาศ-เป็นรอยเชื่อม TIG กราวด์ และขัดเงา ตามด้วยการตรวจเอ็กซ์-ด้วยรังสีหรือสีย้อมแทรกซึมตามคำขอ

การปฏิบัติตามข้อกำหนดด้านไฟฟ้าและความปลอดภัย:

แผงควบคุมที่สร้างขึ้นตามมาตรฐาน NFPA 79 หรือ CE/IEC โดยมีฮาร์ดแวร์เชื่อมต่อกันสำหรับการไหลของน้ำ แรงดันแก๊ส และความปลอดภัยทางไฟฟ้า

การทดสอบการยอมรับจากโรงงาน (FAT):

การทดสอบก่อน-การจัดส่งประกอบด้วยการปั่นแห้ง-ต่อเนื่องเป็นเวลา 72- ชั่วโมง การตรวจสอบประสิทธิภาพการทำงานของสุญญากาศ และการทดสอบการสะสมของการเคลือบโดยใช้สูตรอาหารที่ลูกค้ากำหนด

 

 

การติดตั้งและการสนับสนุนทางเทคนิค

แนวทางการเตรียมสถานที่:เอกสารข้อกำหนดสิ่งอำนวยความสะดวกที่ครอบคลุมให้รายละเอียดอินเทอร์เฟซยูทิลิตี้ (การไหลของน้ำหล่อเย็น/แรงดัน โหลดไฟฟ้า อากาศอัด ไอเสีย)


ใน-การว่าจ้างไซต์:วิศวกรบริการภาคสนามดำเนินการจัดตำแหน่งทางกล การตรวจสอบการรั่วไหลของสุญญากาศ การเชื่อมต่อทางไฟฟ้า- และการสอบเทียบเบื้องต้น


การปรับสูตรกระบวนการ:ใน-การทำงานร่วมกันที่ไซต์กับลูกค้านักโลหะวิทยาและวิศวกรกระบวนการเพื่อล็อคพารามิเตอร์ความหนา ความเค้น และความแข็งของฟิล์มเป้าหมาย


การสนับสนุนวงจรชีวิต:อินเทอร์เฟซการวินิจฉัยระยะไกล สินค้าคงคลังอะไหล่ที่แปลเป็นภาษาท้องถิ่น และโปรแกรมการบำรุงรักษาเชิงป้องกันตามกำหนดเวลา

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

คำถามที่พบบ่อย

 

 

ถาม: โดยทั่วไปแล้วปั๊ม-จะใช้เวลาหยุดทำงานเท่าใดจึงจะถึงแรงดันพื้นฐาน

ตอบ: โดยใช้การกำหนดค่าสุญญากาศสูง-มาตรฐาน (ปั๊มเทอร์โบโมเลกุลหรือไครโอเจนิกที่จับคู่กับราก/ปั๊มสำรองใบพัดหมุน) ห้องเพาะเลี้ยงจะอพยพออกจากบรรยากาศเป็น < 5.0 x 10^-4 Pa ภายใน 25 ถึง 40 นาที ขึ้นอยู่กับปริมาตรของห้องเพาะเลี้ยงและปริมาณการปล่อยก๊าซความชื้น

ถาม: ระบบสามารถสลับระหว่างโหมดสปัตเตอริงแบบรีแอกทีฟและไม่รีแอกทีฟ-ได้โดยอัตโนมัติหรือไม่

ก. ใช่. ซอฟต์แวร์ควบคุม PLC จัดการตัวควบคุมการไหลของมวล (MFC) และเอาท์พุตแหล่งจ่ายไฟแบบไดนามิก ช่วยให้เปลี่ยนระหว่างการสะสมของโลหะและการก่อตัวของสารประกอบที่เกิดปฏิกิริยาได้โดยอัตโนมัติภายในรอบกระบวนการเดียว

ถาม: ระยะการหมุนของดาวเคราะห์มาตรฐานสามารถรองรับรูปทรงของวัสดุพิมพ์แบบใดได้บ้าง

ตอบ: ฟิกซ์เจอร์ดาวเคราะห์แบบ 3 แกนมาตรฐานรองรับส่วนประกอบ 3D ที่ซับซ้อน เช่น เครื่องมือตัดและวาล์วรถยนต์ จิ๊กแบบกำหนดเองสามารถออกแบบสำหรับพื้นผิวเรียบได้ถึง 400 มม. x 400 มม. หรือม้วนทรงกระบอก

ถาม: คุณจะมั่นใจได้อย่างไรว่าความหนาของฟิล์มสม่ำเสมอทั่วทั้งการผลิตจำนวนมาก

ตอบ: ความสม่ำเสมอเกิดขึ้นได้จากแคโทดที่ปรับให้เหมาะสม-ถึง-ระยะห่างของพื้นผิว การจำลองโปรไฟล์สนามแม่เหล็กเฉพาะที่ และการหมุนของดาวเคราะห์หลาย-แกน ความสม่ำเสมอที่แท้จริงได้รับการตรวจสอบโดยการทดสอบตัวอย่างพยานในระหว่าง FAT

ถาม: ข้อกำหนดด้านสาธารณูปโภคสำหรับหน่วยอุตสาหกรรมมาตรฐานมีอะไรบ้าง

ตอบ: โดยทั่วไปต้องใช้ไฟ 3 เฟส 380V/480V (50/60Hz) น้ำหล่อเย็นแบบเย็น (ประมาณ 15 ถึง 20 องศาที่ 3 ถึง 4 บาร์) อากาศอัด (6 บาร์) สำหรับวาล์วนิวแมติก และอากาศแห้งหรือไนโตรเจนที่สะอาดเพื่อระบายอากาศ โหลดที่แน่นอนจะแตกต่างกันไปตามการกำหนดค่าแหล่งจ่ายไฟ

เราเป็นที่รู้จัก{0}}ว่าเป็นหนึ่งในผู้ผลิตและซัพพลายเออร์อุปกรณ์ฟิล์มบางคอมโพสิต pvd ชั้นนำในประเทศจีน หากคุณกำลังจะซื้ออุปกรณ์ฟิล์มบางคอมโพสิต pvd แบบกำหนดเองที่ผลิตในประเทศจีน ยินดีรับรายการราคาจากโรงงานของเรา หากต้องการคำปรึกษาด้านราคาโปรดติดต่อเรา

ส่งคำถาม
ติดต่อเราหากคุณมีคำถามใดๆ

คุณสามารถติดต่อเราผ่านทางโทรศัพท์ อีเมล หรือแบบฟอร์มออนไลน์ด้านล่างนี้ ผู้เชี่ยวชาญของเราจะติดต่อกลับโดยเร็วที่สุด

ติดต่อเลย!