ภาพรวมผลิตภัณฑ์
อุปกรณ์ฟิล์มบางคอมโพสิต PVD เป็นแพลตฟอร์มการสะสมสูญญากาศทางอุตสาหกรรมที่ออกแบบมาเพื่อการฝากฟิล์มบางหลาย- โลหะผสม และนาโนคอมโพสิต ด้วยการผสานรวมแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งและแหล่งกำเนิดอาร์คแคโทดภายในห้องสุญญากาศเดียว ระบบนี้ช่วยให้สามารถควบคุมโครงสร้างจุลภาคของฟิล์ม ความเค้นตกค้าง และการยึดเกาะระหว่างผิวได้อย่างแม่นยำ สร้างขึ้นเพื่อการผลิตอย่างต่อเนื่องและการวิจัยและพัฒนาขั้นสูง แพลตฟอร์มนี้รองรับพื้นผิวโลหะ เซรามิก และโพลีเมอร์พร้อมรูปทรงห้องที่ปรับขนาดได้
-
อุปกรณ์การสะสมสูญญากาศคอมโพสิต PVDแพลตฟอร์มการสะสมสูญญากาศแบบคอมโพสิต PVD ทางอุตสาหกรรมนี้รวมเอาเทคนิคการสะสมหลายแบบไว้ในสภาพแวดล้อมแบบห้องเดียวเพื่อสะสมฟิล์มบางที่เป็นโลหะ หลาย-ชั้น โลหะผสม หรือไดอิเล็กตริกที่สม่ำเสมอ...ดูเพิ่มเติม
-
ระบบการสะสมฟิล์มบางแบบไฮบริด PVDระบบการตกสะสมฟิล์มบางแบบไฮบริด PVD ผสมผสานการระเหยด้วยความร้อน การระเหยของลำอิเล็กตรอน (อี{0}}ลำ) และการสปัตเตอร์แมกนีตรอน RF/DC ภายในสถาปัตยกรรมสุญญากาศเดียว...ดูเพิ่มเติม
-
PVD Multi-อุปกรณ์แปรรูปฟิล์มบางอุปกรณ์ฟิล์มบางสำหรับกระบวนการ PVD Multi- เป็นแพลตฟอร์มการสะสมสูญญากาศแบบบูรณาการที่ออกแบบมาเพื่อรวมเทคนิคการผลิตฟิล์มบาง-หลายอย่าง ซึ่งรวมถึง RF/DC Magnetron Sputtering การระเหยด้วยความร้อน...ดูเพิ่มเติม
-
อุปกรณ์การสะสมคอมโพสิต PVDอุปกรณ์การสะสมคอมโพสิต PVD อุตสาหกรรมได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมสำหรับการผลิตฟิล์มคอมโพสิตบาง-หลาย-ส่วนประกอบ หลาย-ชั้น และนาโน- ระบบรวมการระเหยด้วยความร้อน การระเหยของลำแสง e-...ดูเพิ่มเติม
-
ระบบฟิล์มบางคอมโพสิต PVDระบบเคลือบสูญญากาศระดับอุตสาหกรรม-ที่ผสานการสปัตเตอร์แมกนีตรอน (RF/DC/HiPIMS) และการระเหยอาร์คแคโทด ออกแบบมาเพื่อการสะสมฟิล์มบาง-หลายชั้น โลหะผสม และนาโน-คอมโพสิตบาง-อย่างต่อเนื่องในระดับการผลิตดูเพิ่มเติม
-
อุปกรณ์ฟิล์มบางคอมโพสิต PVDอุปกรณ์ฟิล์มบางคอมโพสิต PVD เป็นแพลตฟอร์มสูญญากาศทางอุตสาหกรรมที่ออกแบบมาเพื่อสังเคราะห์ฟิล์มบางหลาย- โลหะผสม และเกรด สร้างขึ้นบนสถาปัตยกรรมสเตนเลสสตีล 304L/316L แบบโมดูลาร์...ดูเพิ่มเติม
ข้อมูลจำเพาะทางเทคนิค
|
พารามิเตอร์ |
ช่วงข้อมูลจำเพาะ |
|
สุดยอดแรงดันสุญญากาศ |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite) |
|
ความดันการทำงาน |
0.1 ป่า - 5.0 ป่า |
|
อุณหภูมิพื้นผิว |
สภาพแวดล้อมถึง 800 องศา (ควบคุม PID แบบลูปปิด) |
|
แหล่งที่มาของการสะสม |
กำหนดค่าได้: DC/RF Magnetron Sputtering, Pulsed DC, Filtered Cathodic Arc |
|
ความสม่ำเสมอของความหนา |
< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier |
|
วัสดุห้อง |
เหล็กกล้าไร้สนิม 304L/316L กราวด์เชิงกล และขัดเงาด้วยไฟฟ้า- (Ra<= 0.4 um) |
|
การรวมพาวเวอร์ซัพพลาย |
เครื่องกำเนิดไฟฟ้า MF (10-100 kHz), เครื่องกำเนิด RF (13.56 MHz), ไบแอส DC แบบพัลซ์ |
|
ระบบควบคุม |
PLC อุตสาหกรรม + IPC พร้อมการดำเนินการตามสูตรอัตโนมัติ การตรวจสอบการเชื่อมต่อ และการบันทึกข้อมูลเป็นชุด |
กระบวนการสะสมคอมโพสิต
ระบบใช้สถาปัตยกรรมการสะสมไอทางกายภาพแบบไฮบริดที่ผสมผสานเทคโนโลยีแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งและเทคโนโลยีแคโทดิกอาร์ก
การทำงานร่วมกันจากหลากหลาย-:
การทำงานพร้อมกันหรือต่อเนื่องกันของแคโทดหลายตัวช่วยให้สามารถเปลี่ยนแปลงองค์ประกอบภาพอย่างฉับพลันหรือให้คะแนนทั่วทั้งกองฟิล์มได้
การกัดไอออนเบื้องต้น-การทำความสะอาด:
ขั้นตอนการทำความสะอาดพลาสมา RF หรือ DC จะกำจัดออกไซด์ดั้งเดิมและสิ่งปนเปื้อนบนพื้นผิวก่อนที่จะสะสมเพื่อเพิ่มการเคลือบสูงสุด-เพื่อ-การยึดเกาะของพื้นผิว
การควบคุมการสะสมปฏิกิริยา:
ออพติคอลการปล่อยสเปกโทรสโกปี (OES) แบบลูปปิด-ควบคุมการฉีดก๊าซปฏิกิริยา (O2, N2, C2H2) เพื่อรักษาปริมาณสารสัมพันธ์ของสารประกอบให้เสถียรและป้องกันพิษจากเป้าหมาย
การให้น้ำหนักพื้นผิว:
การจ่ายพลังงานแบบพัลซ์ไบแอสแบบซิงโครไนซ์จะระดมไอออนพลังงานสูง-ให้กับฟิล์มที่กำลังเติบโต ทำให้โครงสร้างจุลภาคมีความหนาแน่นขึ้น และปรับแต่งความเค้นอัดที่ตกค้าง
วัสดุฟิล์ม
อุปกรณ์นี้รองรับวัสดุเป้าหมายที่หลากหลายสำหรับความต้องการด้านการทำงานที่ปรับให้เหมาะสม:

ทรานซิชั่นโลหะไนไตรด์และคาร์ไบด์:
TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN สำหรับความต้านทานการสึกหรอและการกัดกร่อน

ระบบนาโนคอมโพสิตและหลายชั้น:
TiSiN, AlTiSiN, ชั้นนาโนของโลหะ/เซรามิกสำหรับความแข็งขั้นสุดและความเสถียรทางความร้อนที่อุณหภูมิสูง-

ออกไซด์นำไฟฟ้าแบบโปร่งใส (TCO):
ITO, AZO, IGZO สำหรับการใช้งานด้านออปโตอิเล็กทรอนิกส์และไฟฟ้าโซลาร์เซลล์

โลหะบริสุทธิ์และโลหะผสม:
Ti, Cr, Al, Cu, เหล็กกล้าไร้สนิม, NiCr สำหรับชั้นหน้าสัมผัสทางไฟฟ้าและชั้นกั้นการแพร่กระจาย
การใช้งาน
เครื่องมือตัดที่แม่นยำ:
การสะสมของสารเคลือบที่มีแรงเสียดทานต่ำ-แข็งเป็นพิเศษ- (เช่น TiAlN) บนเม็ดมีดคาร์ไบด์ ดอกสว่าน และดอกเอ็นมิลล์- เพื่อยืดอายุการใช้งานการทำงานภายใต้ภาระความร้อนสูง
ส่วนประกอบยานยนต์:
ฟิล์มต้านทาน-การลดและการสึกหรอ-บนแหวนลูกสูบ ชิ้นส่วนการฉีดเชื้อเพลิง และชุดเกียร์
ออปโตอิเล็กทรอนิกส์และจอแสดงผล:
ชั้นออกไซด์นำไฟฟ้าที่มีการส่งผ่านต่ำ- สูง-สำหรับแผงสัมผัสและพื้นผิวเซลล์แสงอาทิตย์
อุปกรณ์การแพทย์:
สารเคลือบที่เข้ากันได้ทางชีวภาพและ{0}}ทนต่อการสึกหรอบนเครื่องมือผ่าตัดและการปลูกถ่ายกระดูกและข้อ
การปรับแต่งและการกำหนดค่าระบบ
การกำหนดค่าทางวิศวกรรมได้รับการปรับให้เข้ากับข้อจำกัดของโรงงานผลิตเฉพาะและสูตรกระบวนการ:
ขนาดห้อง:
ตัวเลือกห้องทรงกระบอกหรือสี่เหลี่ยมตั้งแต่ระบบแบทช์ R&D (เส้นผ่านศูนย์กลาง 500 มม.) ไปจนถึง-ระบบล็อคปริมาณการผลิตขนาดใหญ่- (1000 มม.+)
01
การเลือกชุดสูบน้ำ:
การจับคู่รูทโบลเวอร์ ปั๊มเทอร์โบโมเลกุล และปั๊มไครโอเจนิกโดยอิงตาม{0}เวลาหยุดทำงานของปั๊มและโปรไฟล์ปริมาณก๊าซที่ต้องการ
02
การยึดพื้นผิว:
ระยะการหมุนของดาวเคราะห์ที่กำหนดเอง การหมุนของดาวเทียม 3- แกน หรือโมดูลการหมุน-ที่ออกแบบมาสำหรับเรขาคณิต 3 มิติที่ซับซ้อนหรือรางต่อเนื่อง
03
ระดับอัตโนมัติ:
การกำหนดค่าโหลดด้วยตนเองแบบกึ่ง-อัตโนมัติหรือระบบถ่ายเทสุญญากาศอัตโนมัติเต็มรูปแบบพร้อมการจัดการวัสดุพิมพ์แบบหุ่นยนต์
04
การผลิตและการควบคุมคุณภาพ
การตรวจจับการรั่วไหล:
ห้องสุญญากาศทุกห้องผ่านการทดสอบการรั่วของมวลฮีเลียมสเปกโตรมิเตอร์ที่เกณฑ์ < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s
การตรวจสอบการเชื่อม:
รอยเชื่อมด้านข้างสุญญากาศ-เป็นรอยเชื่อม TIG กราวด์ และขัดเงา ตามด้วยการตรวจเอ็กซ์-ด้วยรังสีหรือสีย้อมแทรกซึมตามคำขอ
การปฏิบัติตามข้อกำหนดด้านไฟฟ้าและความปลอดภัย:
แผงควบคุมที่สร้างขึ้นตามมาตรฐาน NFPA 79 หรือ CE/IEC โดยมีฮาร์ดแวร์เชื่อมต่อกันสำหรับการไหลของน้ำ แรงดันแก๊ส และความปลอดภัยทางไฟฟ้า
การทดสอบการยอมรับจากโรงงาน (FAT):
การทดสอบก่อน-การจัดส่งประกอบด้วยการปั่นแห้ง-ต่อเนื่องเป็นเวลา 72- ชั่วโมง การตรวจสอบประสิทธิภาพการทำงานของสุญญากาศ และการทดสอบการสะสมของการเคลือบโดยใช้สูตรอาหารที่ลูกค้ากำหนด
แนวทางการเตรียมสถานที่:เอกสารข้อกำหนดสิ่งอำนวยความสะดวกที่ครอบคลุมให้รายละเอียดอินเทอร์เฟซยูทิลิตี้ (การไหลของน้ำหล่อเย็น/แรงดัน โหลดไฟฟ้า อากาศอัด ไอเสีย)
ใน-การว่าจ้างไซต์:วิศวกรบริการภาคสนามดำเนินการจัดตำแหน่งทางกล การตรวจสอบการรั่วไหลของสุญญากาศ การเชื่อมต่อทางไฟฟ้า- และการสอบเทียบเบื้องต้น
การปรับสูตรกระบวนการ:ใน-การทำงานร่วมกันที่ไซต์กับลูกค้านักโลหะวิทยาและวิศวกรกระบวนการเพื่อล็อคพารามิเตอร์ความหนา ความเค้น และความแข็งของฟิล์มเป้าหมาย
การสนับสนุนวงจรชีวิต:อินเทอร์เฟซการวินิจฉัยระยะไกล สินค้าคงคลังอะไหล่ที่แปลเป็นภาษาท้องถิ่น และโปรแกรมการบำรุงรักษาเชิงป้องกันตามกำหนดเวลา

คำถามที่พบบ่อย
เราเป็นที่รู้จัก{0}}ว่าเป็นหนึ่งในผู้ผลิตและซัพพลายเออร์อุปกรณ์ฟิล์มบางคอมโพสิต pvd ชั้นนำในประเทศจีน หากคุณกำลังจะซื้ออุปกรณ์ฟิล์มบางคอมโพสิต pvd แบบกำหนดเองที่ผลิตในประเทศจีน ยินดีรับรายการราคาจากโรงงานของเรา หากต้องการคำปรึกษาด้านราคาโปรดติดต่อเรา
