ภาพรวมผลิตภัณฑ์
ระบบการระเหยอาร์คแคโทดิกอุตสาหกรรมเป็นแพลตฟอร์ม-การสะสมไอทางกายภาพ (PVD) เกรดการผลิตที่ออกแบบมาเพื่อการเคลือบแข็งที่-ต้านทานการสึกหรอ การกัดกร่อน- และ-แรงเสียดทานต่ำ ด้วยการใช้อาร์คไฟฟ้ากระแสแรงต่ำ-และ- ทำให้เป้าหมายแคโทดที่เป็นของแข็งกลายเป็นไอและแตกตัวเป็นไอออนทันทีที่จุดแคโทด ทำให้เกิดพลาสมาโลหะที่แตกตัวเป็นไอออนสูง
ออกแบบและผลิตภายใต้มาตรฐานการจัดการคุณภาพ ISO 9001 และคำสั่งการปฏิบัติตาม CE ระบบนี้ได้รับการกำหนดค่าสำหรับการดำเนินการเคลือบปริมาณงานสูง-ในการผลิตเครื่องมือ ชิ้นส่วนยานยนต์ และภาคส่วนฮาร์ดแวร์อุตสาหกรรม การกำหนดค่ามาตรฐานรวมเอาเค้าโครงแคโทดหลาย-เข้ากับการควบคุมสนามแม่เหล็ก-ที่เป็นอิสระ อุปกรณ์จ่ายไฟ DC/พัลส์ไบแอสที่ตั้งโปรแกรมได้ และการควบคุมสุญญากาศอัตโนมัติเพื่อรักษาปริมาณสัมพันธ์ของฟิล์มที่สม่ำเสมอและโครงสร้างจุลภาคที่หนาแน่น
-
![ระบบฟิล์มบางระเหยอาร์ค]()
ระบบฟิล์มบางระเหยอาร์คระบบฟิล์มบางระเหยแบบแคโทดอาร์กอุตสาหกรรมได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมเพื่อการสะสมตัวที่มีอัตราการสะสมสูง-ในการเคลือบโลหะ โลหะผสม และสารประกอบเซรามิกที่มีความหนาแน่นและยึดเกาะได้ดี...ดูเพิ่มเติม -
![อุปกรณ์ PVD การระเหยอาร์ค]()
อุปกรณ์ PVD การระเหยอาร์คระบบ PVD การระเหยอาร์คแคโทดทางอุตสาหกรรมใช้อาร์คไฟฟ้ากระแสต่ำ-แรงดันต่ำ- เพื่อทำให้เป้าหมายแคโทดแข็งกลายเป็นไอในสภาพแวดล้อมสุญญากาศ กลไกนี้ทำให้อัตราการไอออไนเซชันของโลหะมีมากกว่า 80%...ดูเพิ่มเติม -
![ระบบฟิล์มบางอาร์คสุญญากาศ]()
ระบบฟิล์มบางอาร์คสุญญากาศระบบฟิล์มบางอาร์กสุญญากาศทางอุตสาหกรรมใช้การระเหยของอาร์คแคโทดเพื่อสร้างฟิล์มบางโลหะ โลหะผสม และเซรามิกที่มีความหนาแน่นและยึดเกาะสูง...ดูเพิ่มเติม -
![อุปกรณ์ฟิล์มบาง Cathodic Arc]()
อุปกรณ์ฟิล์มบาง Cathodic Arcระบบการตกสะสมไอทางกายภาพ (PVD) ใช้อาร์คไฟฟ้ากระแสต่ำ-แรงดันและกระแสสูง-เฉพาะจุดเพื่อทำให้เป้าหมายแคโทดแข็งกลายเป็นไอเป็นพลาสมาที่แตกตัวเป็นไอออนอย่างสมบูรณ์ อัตราการไอออไนซ์สูง (40%-80%)...ดูเพิ่มเติม -
![อุปกรณ์การสะสมอาร์กระเหย]()
อุปกรณ์การสะสมอาร์กระเหยแพลตฟอร์มการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) ทางอุตสาหกรรมที่ออกแบบมาเพื่อการสังเคราะห์ที่มีอัตราการ-สูงสำหรับการเคลือบแข็งที่มีความหนาแน่น ทนต่อการสึกหรอ- และใช้งานได้จริง...ดูเพิ่มเติม -
![อุปกรณ์ฟิล์มบางระเหยอาร์ค]()
อุปกรณ์ฟิล์มบางระเหยอาร์คระบบการระเหยอาร์กแคโทดนี้จะทำให้เป้าหมายแคโทดแข็งกลายเป็นไอโดยใช้อาร์กไฟฟ้ากระแสต่ำ-แรงดันต่ำและสูง- เพื่อสร้างพลาสมาของโลหะที่แตกตัวเป็นไอออนอย่างสมบูรณ์...ดูเพิ่มเติม
ข้อมูลจำเพาะทางเทคนิค
|
พารามิเตอร์ |
ช่วงข้อมูลจำเพาะ / การกำหนดค่ามาตรฐาน |
|
ขนาดห้อง |
เส้นผ่านศูนย์กลาง: 800 มม. - 1800 มม. (เค้าโครงแนวตั้ง/แนวนอนที่ปรับแต่งได้) |
|
วัสดุห้อง |
สแตนเลส SUS304 ผนังสองชั้น-พร้อมช่องระบายความร้อนน้ำภายใน- |
|
สุดยอดแรงดันสุญญากาศ |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Achieved via roots blower and molecular/oil diffusion pump groups) |
|
การกำหนดค่าแคโทด |
แหล่งกำเนิดส่วนโค้งสี่เหลี่ยม/วงกลม 4 ถึง 12 จุดพร้อมระบบบังคับเลี้ยวแบบแม่เหล็กไฟฟ้า |
|
อาร์คพาวเวอร์ซัพพลาย |
300A - 500กระแสคงที่แบบปรับได้, ระลอกคลื่น<= 2% |
|
พลังอคติของพื้นผิว |
ปรับได้ 0 ถึง -1000V, ความถี่ไบแอสแบบพัลส์ 10 kHz - 100 kHz |
|
ระบบทำความร้อน |
ชุดทำความร้อนแบบ Radiant อุณหภูมิสูงสุด 600 องศา +/- 5 องศาสม่ำเสมอ |
|
การหมุนชิ้นงาน |
การหมุนของดาวเคราะห์หรือแกนคู่-ที่ขับเคลื่อนโดยการป้อนผ่านของไหลแม่เหล็ก |
|
ระบบควบคุม |
PLC + พีซีอุตสาหกรรม สูตร-ควบคุมลำดับอัตโนมัติที่ขับเคลื่อนด้วย |
|
ข้อกำหนดด้านสาธารณูปโภค |
น้ำหล่อเย็น: 0.25-0.35 MPa, 20-25 องศา; ไฟฟ้า: 380V/480V, 3 เฟส, 50/60 เฮิรตซ์ |
กระบวนการระเหยอาร์ค
วงจรการสะสมจะดำเนินการภายใต้การควบคุมขั้นตอนที่เข้มงวดเพื่อรับประกันความสมบูรณ์ของฟิล์มและการยึดเกาะของส่วนต่อประสาน:
การอพยพและการปล่อยก๊าซออก:
ห้องสุญญากาศถูกปั๊มลงไปที่แรงดันฐาน พื้นผิวจะถูกให้ความร้อนภายใต้สุญญากาศเพื่อขจัดสารระเหยที่พื้นผิวและความชื้นที่ตกค้าง
01
การแกะสลักด้วยพลาสม่า (การทำความสะอาด):
การระดมไอออนของโลหะ (โดยใช้แหล่งเป้าหมายไทเทเนียมหรือโครเมียม) ทำความสะอาดพื้นผิวของซับสเตรตในระดับอะตอม โดยกำจัดออกไซด์ดั้งเดิมและเปิดใช้งานส่วนต่อประสาน
02
การสะสมปฏิกิริยา:
ก๊าซที่เกิดปฏิกิริยา (N2, CH4, O2) จะถูกฉีดเข้าไปในห้องเพาะเลี้ยงผ่านตัวควบคุมการไหลของมวล (MFC) เพื่อทำปฏิกิริยากับฟลักซ์พลาสมาของโลหะ (เช่น Ti, Cr, AlTi) ทำให้เกิดฟิล์มผสม เช่น TiN, TiAlN หรือ CrN
03
ระบายความร้อนและการระบายอากาศ:
การระบายความร้อนหลังการสะสม-เกิดขึ้นภายใต้บรรยากาศก๊าซเฉื่อยป้องกันก่อนการระบายอากาศในห้องและการดึงชิ้นส่วนกลับมา
04
เป้าหมายแคโทดที่รองรับ
ไทเทเนียม (Ti) และไทเทเนียมอลูมิเนียม (TiAl):วัสดุฐานสำหรับการเคลือบ TiN มาตรฐานและการเคลือบ TiAlN ที่มีความต้านทาน-ออกซิเดชัน{1}}สูง (ทนต่อการเกิดออกซิเดชันสูงถึง 900 องศา )
โครเมียม (Cr):ใช้สำหรับตกแต่งพื้นผิวและชั้น CrN/CrC ที่ต้านทานการกัดกร่อน-
เซอร์โคเนียม (Zr) และไทเทเนียมซิลิคอน (TiSi):ใช้สำหรับฟิล์มนาโนคอมโพสิตที่ทนทานต่อการสึกหรอเป็นพิเศษ-และการตกแต่งพิเศษ
วัสดุพื้นผิวที่เข้ากันได้
เหล็กความเร็วสูง- (HSS):ดอกสว่าน ดอกเอ็นมิลล์ เตา และสว่าน
ซีเมนต์คาร์ไบด์ (WC-Co):เม็ดมีด รีมเมอร์ และแม่พิมพ์ขึ้นรูปที่สามารถจัดทำดัชนีได้
วิศวกรรมเหล็กและโลหะผสม:ส่วนประกอบวาล์วยานยนต์ เกียร์ อุปกรณ์สุขภัณฑ์สแตนเลส และการปลูกถ่ายทางการแพทย์ไทเทเนียม
แอปพลิเคชันและผลกระทบด้านประสิทธิภาพ
เครื่องมือตัดโลหะ:
การสะสมของการเคลือบ TiAlN และ AlCrN บนเม็ดมีดคาร์ไบด์และดอกเอ็นมิล ช่วยยืดอายุการใช้งานของเครื่องมือขึ้น 200% ถึง 300% และช่วยให้สามารถตัดเฉือนความเร็วสูง-แบบแห้งได้
การขึ้นรูปและการปั๊มแม่พิมพ์:
การใช้สารเคลือบที่มีความหนาแน่นต่ำ-เพื่อลดการสึกหรอของกาว การครูด และการติดชิ้นงานระหว่างการดึงลึก ซึ่งช่วยลดเวลาหยุดทำงานได้ถึง 40%
ระบบส่งกำลังของยานยนต์:
การรักษาแหวนลูกสูบ หมุดฉีดเชื้อเพลิง และก้านกระทุ้ง เพื่อลดค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานของขอบเขตให้เหลือ < 0.15 และป้องกันการสึกหรอจากการครูด
ฮาร์ดแวร์อุตสาหกรรมและก๊อกน้ำสุขาภิบาล:
ชั้น PVD ที่ตกแต่งอย่างแข็ง (ทอง TiN, โรสโกลด์, เซอร์โคเนียมสีดำ) ผ่านการทดสอบสเปรย์เกลือเป็นกลางขั้นต่ำ 500 ชั่วโมง (ASTM B117)
การปรับแต่งและการกำหนดค่ากระบวนการ
เค้าโครงอุปกรณ์ปรับขนาดตามปริมาณการผลิต รูปทรงของชิ้นส่วน และขนาดโรงงาน:
เรขาคณิตของห้อง:
โครงสร้างการรับน้ำหนักแนวตั้งสำหรับเครื่องมือหนัก การกำหนดค่าชุดแนวนอนสำหรับการโหลดฟิกซ์เจอร์ที่มีความจุสูง-
การรวมแหล่งที่มา:
การกำหนดค่าแบบไฮบริดที่รวมแหล่งกำเนิดอาร์คแคโทดเข้ากับแคโทดแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่ง (RMS) ที่ไม่สมดุลเพื่อสร้างสถาปัตยกรรมหลายชั้น{0}}ที่ราบรื่นและไร้หยด
ระบบการกรอง:
ตัวกรองอนุภาคขนาดใหญ่แบบแม่เหล็กเสริม (ตัวกรองส่วนโค้งบังคับทิศทาง) ที่ติดตั้งบนช่องแคโทดเพื่อกำจัด-หยดมาโครสำหรับการเคลือบเชิงฟังก์ชันที่ราบรื่นหรือแม่นยำเป็นพิเศษ-
อินเตอร์เฟซอัตโนมัติ:
การบูรณาการ-พร้อมสำหรับแขนบรรทุกหุ่นยนต์และการแบ่งกลุ่มยานพาหนะนำทางอัตโนมัติ (AGV)
ความสมบูรณ์ของโครงสร้าง:ตัวห้องผ่านการทดสอบการรั่วของมวลสเปกโตรมิเตอร์ฮีเลียมที่เกณฑ์ความไวที่<= 1 x 10^-9 Pa*m3/s prior to assembly.
ความปลอดภัยทางไฟฟ้าและการปฏิบัติตามข้อกำหนด:สร้างขึ้นตามแนวทางความปลอดภัยทางไฟฟ้าของ CE และ IEC อย่างเคร่งครัด โดยมีการทดสอบฉนวนเต็มรูปแบบและอินเทอร์ล็อคเพื่อความปลอดภัยในกรณีฉุกเฉิน
ฟังก์ชันการทำงาน-ปิด (FAT):Each system undergoes a 72-hour continuous dry-run test and a full-process thermal deposition test in our factory. Coating thickness uniformity (+/- 5%) and adhesion (Scratch Tester critical load Lc >= 40 N / Rockwell indentation HF1-HF2) ได้รับการตรวจสอบความถูกต้องบนคูปองทดสอบมาตรฐานก่อนจัดส่ง
การติดตั้งและการสนับสนุนทางเทคนิค
แพ็คเกจการเตรียมสถานที่:
ภาพวาดเค้าโครงสาธารณูปโภคที่ครอบคลุมซึ่งมีรายละเอียดอัตราการไหลของน้ำหล่อเย็น การระบายไอเสีย ความสามารถในการรับน้ำหนักของพื้น และข้อกำหนดการตกไฟฟ้า โดยให้หลังจากสัญญา 4 สัปดาห์-
ใน-การว่าจ้างไซต์:
วิศวกรกระบวนการที่ได้รับการรับรองจากโรงงาน-จะจัดการการจัดตำแหน่งทางกล การตรวจจับการรั่วไหลของสุญญากาศ การรวมระบบไฟฟ้า และการตั้งค่าสูตรอาหารพื้นฐานเบื้องต้นที่โรงงานของลูกค้า
โอนสูตรกระบวนการ:
การส่งมอบประกอบด้วยสูตรพื้นฐานมาตรฐาน (TiN, TiAlN, CrN) และการฝึกอบรมการปฏิบัติงานสำหรับทีมบำรุงรักษาภายในและทีมวิศวกร
การสนับสนุนการวินิจฉัยระยะไกล:
ระบบที่ติดตั้งเกตเวย์เราเตอร์อุตสาหกรรมที่ปลอดภัยสำหรับการแก้ไขปัญหาพารามิเตอร์ระยะไกลและการวินิจฉัยลอจิก PLC
คำถามที่พบบ่อย
เรา{0}}เป็นที่รู้จักดีว่าเป็นหนึ่งในผู้ผลิตและซัพพลายเออร์อุปกรณ์ฟิล์มบางการระเหยอาร์กชั้นนำในประเทศจีน หากคุณกำลังจะซื้ออุปกรณ์ฟิล์มบางระเหยส่วนโค้งแบบกำหนดเองที่ผลิตในประเทศจีน ยินดีรับรายการราคาจากโรงงานของเรา หากต้องการคำปรึกษาด้านราคา โปรดติดต่อเรา
