อุปกรณ์ฟิล์มบางระเหยอาร์ค

ระบบการระเหยอาร์กแคโทดนี้จะทำให้เป้าหมายแคโทดแข็งกลายเป็นไอโดยใช้อาร์กไฟฟ้ากระแสต่ำ-แรงดันต่ำและสูง- เพื่อสร้างพลาสมาของโลหะที่แตกตัวเป็นไอออนอย่างสมบูรณ์ เมื่อเปรียบเทียบกับการระเหยความร้อนแบบมาตรฐานหรือการสปัตเตอร์แมกนีตรอน กระบวนการ PVD นี้ให้ความหนาแน่นของพลาสมาที่สูงกว่าและฟิล์ม-ที่เหนือชั้นถึง-การยึดเกาะของพื้นผิว ซึ่งออกแบบมาเพื่อการใช้งาน ความทนทานต่อการสึกหรอ- และการเคลือบแข็งเพื่อการตกแต่ง

แหล่งที่มากรองแม่เหล็ก:ท่อแม่เหล็กภายในจะเบนไมโครดรอปเล็ตที่เป็นสหภาพออกจากฟลักซ์ไอ ทำให้มั่นใจได้ถึงความหยาบผิว (Ra) ต่ำสำหรับชิ้นส่วนที่มีความแม่นยำ

ปิด-การควบคุมอคติแบบลูป: Synchronized pulsed bias regulation manages ion bombardment energy dynamically, relieving residual internal stress in thick ceramic coatings (>10 อืม)

อัตราการไอออไนเซชันสูง:ประสิทธิภาพไอออไนเซชันของพลาสมาสูงถึง 40% - 80% ทำให้เกิดพันธะเคมีหนาแน่นโดยไม่ต้องอาศัยความช่วยเหลือจากความถี่วิทยุภายนอก

การออกแบบห้องโมดูลาร์:ผลิตจากสแตนเลส 304/316L พร้อมพื้นผิวภายในขัดด้วยไฟฟ้า- (Ra<= 0.4 um), minimizing outgassing and vacuum cycle times.

ปั๊มหยาบและราก:ปั๊มใบพัดหมุนแบบสอง- สเตจที่จับคู่กับบูสเตอร์โบลเวอร์แบบกลไก จัดการการกัดหยาบเบื้องต้นและโหลดก๊าซสูงระหว่างการฉีด N2 หรือ C2H2 แบบรีแอกทีฟ

ปั๊มสุญญากาศสูง:ปั๊มโมเลกุลแบบเทอร์โบลอยด้วยแม่เหล็ก- (1200 - 3200 ลิตร/วินาที) รักษาความเร็วการสูบน้ำที่สูงสำหรับไอน้ำที่ตกค้างและก๊าซเบา

วาล์วและมาตรวัด:วาล์วประตูนิวเมติก, หน้าแปลนซีลสุญญากาศสูง- ISO/CF และเกจแคโทดไอออไนเซชันแบบรวมของ Pirani/ร้อน- รวมอยู่ในลูปอินเตอร์ล็อกของ PLC โดยตรง

เป้าหมายแคโทดที่เข้ากันได้
โลหะบริสุทธิ์:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, Ni, Ag, Mo, W

โลหะผสมและสารประกอบ:TiAl, CrAl, TiSi, WC, เป้าหมายกราไฟท์สำหรับการสะสมคาร์บอนคล้ายเพชร- (DLC)

วัสดุพื้นผิว
โลหะหนักและคาร์ไบด์:ซีเมนต์คาร์ไบด์ (WC-Co), เหล็กความเร็วสูง- (HSS), เม็ดมีดตัดสแตนเลส

เซมิคอนดักเตอร์และเซรามิก:เวเฟอร์ซิลิคอน อลูมินา (Al2O3) เซรามิกทางเทคนิคทางวิศวกรรม

เครื่องมือตัดและแม่พิมพ์:การสะสม TiN, TiAlN และ CrN บนดอกสว่าน ดอกเอ็นมิลล์ และแม่พิมพ์ปั๊มเพื่อเพิ่มความแข็งผิวเป็น 2500 - 3500 HV และลดแรงเสียดทาน

ส่วนประกอบยานยนต์:ชั้น-ต้านทานการสึกหรอและแรงเสียดทานต่ำ-บนแหวนลูกสูบ หมุดหัวฉีด และฟันเฟือง

การเคลือบแข็งสำหรับตกแต่ง:การเคลือบสีแบบ PVD (ทอง โรสโกลด์ กันเมทัล ไทเทเนียมสีดำ) สำหรับตัวเรือนฮาร์ดแวร์และเครื่องใช้ไฟฟ้า

ฟิล์มบางที่ใช้งานได้จริง:ชั้นสื่อกระแสไฟฟ้าและชั้นกั้นสำหรับบรรจุภัณฑ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์และเซมิคอนดักเตอร์

ขนาดห้อง:การเปลี่ยนแปลงของปริมาตรที่ปรับขนาดให้ตรงกับรูปทรงของแบทช์เฉพาะและพื้นที่การผลิต

การผสมข้ามแหล่งที่มา:การบูรณาการหลาย-แคโทดที่รวมแหล่งกำเนิดอาร์คแคโทดเข้ากับแคโทดแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่ง (UBMS) ที่ไม่สมดุลสำหรับฟิล์มหลายชั้น-ที่มีการไล่ระดับสี

การยึดพื้นผิว:อุปกรณ์จับยึดดาวเคราะห์แบบกำหนดเอง อาเรย์ทำความร้อนเฉพาะจุดสูงถึง 600 องศา และการป้อนพลังงานแบบกำหนดเอง

การรวมซอฟต์แวร์:ตรรกะสูตร PLC แบบกำหนดเอง การบันทึกข้อมูล SCADA และการกำหนดค่าการปฏิบัติตามข้อกำหนดทางอุตสาหกรรม

การตรวจจับการรั่วไหล:การทดสอบแมสสเปกโตรมิเตอร์ฮีเลียมในห้องและตะเข็บเชื่อมทั้งหมด รับประกันอัตราการรั่วโดยรวม<= 1.0 x 10^-9 Pa·m^3/s.

การตรวจสอบความปลอดภัยทางไฟฟ้า:การทดสอบความทนทานต่อไดอิเล็กตริกที่มีศักย์สูง- การตรวจสอบความต่อเนื่องของการต่อสายดิน และการตรวจสอบการตอบสนองของอินเทอร์ล็อกก่อนลัง

การตรวจสอบย้อนกลับของวัสดุ:รายงานการทดสอบวัสดุ (MTR) ที่จัดทำขึ้นสำหรับโครงสร้างเหล็กสเตนเลส ซีลสูญญากาศ และส่วนประกอบฉนวนไฟฟ้าแรงสูง-

ทดลองจัดส่งก่อน-:การทดสอบการทำงานแห้งต่อเนื่อง 72{{1} ชั่วโมงสำหรับชุดปั๊ม ระบบขับเคลื่อนแบบหมุน และอุปกรณ์จ่ายไฟภายใต้รอบการจำลอง

คู่มือการเตรียมสถานที่:Utilities documentation covering floor load limits, cooling water flow rates (>15 ม.^3/ชม. ที่ 20 - 25 องศา ) การสกัดไอเสีย และหยดทางไฟฟ้า (380V/480V, 3 เฟส, 50/60Hz)

การว่าจ้างและการยอมรับ:การทดสอบการยอมรับของโรงงาน (FAT) ที่โรงงานของเรา การทดสอบการยอมรับไซต์ (SAT) และการส่งมอบกระบวนการที่ดำเนินการบน-ไซต์โดยวิศวกรประจำถิ่น

การสนับสนุนวงจรชีวิต:การวินิจฉัยระยะไกลด้วย VPN ที่ปลอดภัย การเก็บสต็อกอะไหล่ในสต็อก (เป้าหมาย โล่ ซีล) และการฝึกอบรมการบำรุงรักษาช่างเทคนิคในพื้นที่