อุปกรณ์ฟิล์มบางแมกนีตรอนสปัตเตอร์

อุปกรณ์ฟิล์มบางแมกนีตรอนสปัตเตอร์ใช้เทคโนโลยีหลักของบริษัท: การทำความสะอาดลำแสงไอออนพลังงานสูง + แหล่งกำเนิดแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่ง (แมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่ง) อุปกรณ์นี้ใช้การควบคุมอัตโนมัติเต็มรูปแบบ การเพิ่มประสิทธิภาพแบบโมดูลาร์แบบบูรณาการ อุปกรณ์กำลังสูง ประสิทธิภาพการทำงานที่มั่นคง ใช้งานง่าย และบำรุงรักษาง่าย เพื่อตอบสนองความต้องการการเคลือบที่แตกต่างกัน ห้องสามารถออกแบบและกำหนดค่าด้วยเป้าหมายที่หลากหลาย เช่น เป้าหมายทรงกลมระนาบ เป้าหมายแถบ และเป้าหมายทรงกระบอก และสามารถรับฟิล์มคอมโพสิตหลาย-ชั้นที่มีความหนาแน่นสูงและประสิทธิภาพสม่ำเสมอที่ดี รวมถึงโลหะต่างๆ ชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ วัสดุแม่เหล็กไฟฟ้า ตลอดจนฉนวนออกไซด์และฟิล์มเซรามิก อุปกรณ์ฟิล์มบางแมกนีตรอนสปัตเตอร์เหมาะสำหรับการพัฒนาการเคลือบและบริการการเคลือบเป็นชุด

express Magnetron Sputtering Thin Film Equipment มีเทคโนโลยีหลักที่มีเอกลักษณ์เฉพาะ สนามแม่เหล็กที่ออกแบบมาเป็นพิเศษและเส้นทางก๊าซในกระบวนการ ปรับปรุงอัตราการใช้เป้าหมายได้อย่างมีประสิทธิภาพและ-ความเสถียรของกระบวนการในระยะยาว

แสดงอินเทอร์เฟซสากลแบบโมดูลาร์เข้ากันได้โดยตรงกับเป้าหมายแคโทดในรูปแบบต่าง ๆ ช่วยให้ DC พัลส์, IF, โหมดการทำงาน RF; ความเข้ากันได้ดี;

express ระบบปฏิบัติการกระบวนการอัจฉริยะอัตโนมัติที่ออกแบบเอง-ให้ความสามารถในการแก้ไขและการเรียกสูตรกระบวนการที่ครอบคลุมและสะดวกสบาย พร้อมด้วยระบบตรวจสอบพารามิเตอร์กระบวนการแบบเรียลไทม์- ทำให้สามารถควบคุมระยะไกลแบบออนไลน์ได้