Magnetron Sputtering อุปกรณ์ฟิล์มบาง ๆ

Magnetron sputtering อุปกรณ์ฟิล์มบางกำลังใช้เทคโนโลยีแกนกลางที่ครบกำหนดของ บริษัท : การทำความสะอาดอิออนพลังงานสูง + แหล่งแม็กเนทรอนสปัตเตอร์ (Magnetron Sputtering) อุปกรณ์ใช้การควบคุมอัตโนมัติเต็มรูปแบบ เพื่อตอบสนองความต้องการการเคลือบที่แตกต่างกันห้องสามารถออกแบบและกำหนดค่าด้วยเป้าหมายที่หลากหลายเช่นเป้าหมายวงกลมระนาบเป้าหมายแถบและเป้าหมายทรงกระบอกและสามารถรับฟิล์มคอมโพสิตหลายชั้นที่มีความหนาแน่นสูงและประสิทธิภาพที่สม่ำเสมอ Magnetron Sputtering อุปกรณ์ฟิล์มบางเหมาะสำหรับการพัฒนาสารเคลือบผิวและบริการเคลือบแบทช์

Express Magnetron Sputtering อุปกรณ์ฟิล์มบางมีเทคโนโลยีหลักที่ไม่เหมือนใครสนามแม่เหล็กที่ออกแบบมาเป็นพิเศษและเส้นทางก๊าซกระบวนการปรับปรุงอัตราการใช้งานเป้าหมายอย่างมีประสิทธิภาพและความเสถียรของกระบวนการในระยะยาว

Express Modular Universal Interface เข้ากันได้โดยตรงกับเป้าหมายแคโทดในรูปแบบต่าง ๆ ช่วยให้พัลส์ DC, ถ้า, โหมดการทำงาน RF; ความเข้ากันได้ที่แข็งแกร่ง

แสดงระบบปฏิบัติการกระบวนการอัจฉริยะอัตโนมัติที่ออกแบบด้วยตนเองให้การแก้ไขสูตรและความสามารถในการโทรที่ครอบคลุมและสะดวกสบายพร้อมระบบตรวจสอบพารามิเตอร์กระบวนการตามเวลาจริงช่วยให้การควบคุมระยะไกลออนไลน์