The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >การแตกตัวเป็นไอออน 80% ของวัสดุแคโทดแข็ง ผลักดัน-การระดมไอออนพลังงานสูงเข้าสู่ส่วนต่อประสานของซับสเตรต เพื่อการยึดเกาะของฟิล์มที่เหนือกว่า เมื่อเทียบกับการสปัตเตอร์แมกนีตรอน
ห้องสุญญากาศที่ทำจากเหล็กสเตนเลส-ผนังสองชั้น-มีแหล่งกำเนิดอาร์คแบบโมดูลาร์และปั๊มจัดการวงจรอัตโนมัติที่ควบคุมด้วย PLC---ด้านล่าง ใน-การกัดพลาสมาในแหล่งกำเนิด การส่งก๊าซปฏิกิริยา และการสะสมหลาย-ชั้น
ข้อมูลจำเพาะทางเทคนิค
|
พารามิเตอร์ |
ข้อมูลจำเพาะ |
|
ขนาดห้อง |
เส้นผ่านศูนย์กลางภายในสั่งทำพิเศษ (Pi 800 มม. - Phi 1500 มม.) |
|
วัสดุเรือ |
SUS304 / SUS316L ผนังสองชั้นพร้อมช่องระบายความร้อนภายใน |
|
ความดันฐาน |
<= 5.0 x 10^-3 Pa (dry-pumped) |
|
ปั๊ม-เวลาหยุดทำงาน |
บรรยากาศถึง 6.0 x 10^-2 Pa นิ้ว<= 15 minutes (clean, empty) |
|
อาร์คแคโทด |
แหล่งกำเนิดสี่เหลี่ยมหรือวงกลม 4 ถึง 12 แห่ง |
|
พาวเวอร์ซัพพลาย |
ส่วนโค้ง DC (0-200 A) และพัลซิ่งไบแอส (0-3000 V) |
|
การหมุนพื้นผิว |
การหมุนของดาวเคราะห์หลาย-แกน/การหมุนเดี่ยว-ผ่านการป้อนผ่านของไหลแม่เหล็ก |
|
ระบบควบคุม |
Siemens S7-1500 PLC + IPC พร้อมสูตรอัตโนมัติ |
|
ข้อกำหนดด้านสาธารณูปโภค |
น้ำเย็น (18-25 C, 0.2-0.4 MPa); อากาศอัด (0.5-0.7 MPa) |
คุณสมบัติที่สำคัญ
อัตราการไอออไนเซชันสูง:ลดการหลุดล่อนของฟิล์มด้วยการปล่อยไอออนหนาแน่น
ความเสถียรของส่วนโค้งที่ควบคุม:ทริกเกอร์ที่ตั้งโปรแกรมได้และการควบคุมกระแสลูป-แบบปิดยับยั้งการก่อตัวของอนุภาคขนาดใหญ่ (หยด) และป้องกันพิษต่อเป้าหมายภายใต้ก๊าซที่เกิดปฏิกิริยา (N2, C2H2, O2)
แหล่งที่มาของอาร์คแบบโมดูลาร์:ตำแหน่งด้านข้างและประตูปรับให้เข้ากับรูปทรงเครื่องมือ 3D ที่ซับซ้อนเพื่อการกระจายความหนาที่สม่ำเสมอ
อคติของพื้นผิวแบบพัลซ์:พัลส์แรงดันไฟฟ้าที่ซิงโครไนซ์จะปรับแต่งความเค้นตกค้าง การปรับแต่งเกรน และความแข็งระดับไมโคร
ขั้นตอนการหมุนเวียนงานหนัก-:อุปกรณ์จับยึดดาวเคราะห์รองรับน้ำหนักได้มากถึง 500 กก. ภายใต้ภาระความร้อนและสุญญากาศสูง
การกำหนดค่าระบบสุญญากาศ
การหยาบและราก:ปั๊มสกรูแห้งแบบหลาย-ที่จับคู่กับโบลเวอร์ Roots ป้องกันการปนเปื้อนของไฮโดรคาร์บอนจนถึงแรงดันการเปลี่ยนผ่าน
สุญญากาศสูง:ปั๊มเทอร์โบโมเลกุลหรือปั๊มกระจายรักษาแรงดันฐานสูงเป็นพิเศษ-
การดักจับและการวัด:ตัวเลือกกับดักเย็นไนโตรเจนเหลว เกจผสม Pirani/Cold Cathode ช่วงกว้าง
วัสดุระเหยและความเข้ากันได้ของพื้นผิว
เป้าหมายแคโทด:โลหะบริสุทธิ์ (Ti, Cr, Al, Zr, Mo, W) และเป้าหมายโลหะผสม (TiAl, TiSi, CrAl, WC-Co)
วัสดุพื้นผิว:เหล็กความเร็วสูง- (HSS) เม็ดมีดคาร์ไบด์ เหล็กกล้าเครื่องมืองานเย็น/ร้อน (SKD11, H13) เหล็กกล้าไร้สนิม และโลหะผสมไทเทเนียม
ก่อน-การรักษา:การทำความสะอาดอัลตราโซนิกในน้ำตามด้วย- Ar+ ในแหล่งกำเนิด หรือการกัดด้วยไอออนของโลหะเพื่อกำจัดออกไซด์ตามธรรมชาติ
การใช้งาน
เครื่องมือตัด:TiN, TiAlN, and AlCrN coatings on end mills and drills to achieve >ความแข็งผิว 3000 HV และความต้านทานการเกิดออกซิเดชัน
แม่พิมพ์และแม่พิมพ์:ชั้นป้องกันบนแม่พิมพ์ฉีดและแม่พิมพ์ปั๊มเพื่อป้องกันการสึกหรอและการเสียดสี
ยานยนต์:การเคลือบ DLC และ CrN บนแหวนลูกสูบ เกียร์ และพินหัวฉีดเพื่อลดค่าสัมประสิทธิ์การเสียดสี
อุปกรณ์การแพทย์:การเคลือบ TiN/TiCN ที่เข้ากันได้ทางชีวภาพบนเครื่องมือผ่าตัดและการปลูกถ่าย
ตัวเลือกการปรับแต่ง
ขนาดห้องและเค้าโครงพอร์ต:พอร์ตการตรวจสอบปริมาณและการปล่อยแสง (OEM) ที่ปรับแต่งโดยเฉพาะ
เครื่องกำเนิดไฟฟ้า:ลูกค้า-แบรนด์แหล่งจ่ายไฟที่ระบุหรือการกำหนดค่าพัลส์เฉพาะ-
การกรอง:สนามบังคับเลี้ยวแบบแม่เหล็กและตัวกรองอนุภาคขนาดใหญ่สำหรับการเคลือบแบบออปติคอล/อิเล็กทรอนิกส์แบบหยด-เป็นศูนย์
ระบบอัตโนมัติ:การรวม SCADA และการเชื่อมต่อฐานข้อมูล SQL สำหรับการบันทึกข้อมูล Industry 4.0
การควบคุมคุณภาพและการทดสอบการยอมรับของโรงงาน
การทดสอบการรั่ว:การทดสอบมวลสเปกโตรมิเตอร์ฮีเลียมบนรอยเชื่อมทั้งหมด (<= 1.0 x 10^-9 Pa*m3/s).
ความปลอดภัยทางไฟฟ้า:การตรวจสอบความต้านทานของฉนวน การต่อสายดิน และการเชื่อมต่อตามมาตรฐาน CE/NFPA
ฟังก์ชันดรายรัน:การทดสอบทางกลไกและการหมุนเวียนของวาล์วอย่างต่อเนื่องเป็นเวลา 72 ชั่วโมง
การตรวจสอบกระบวนการ:การทดสอบคูปองอ้างอิงสำหรับความแข็งระดับนาโนและการยึดเกาะของรอยขีดข่วน
การติดตั้งและการสนับสนุน
ก่อน-การติดตั้ง:พิมพ์เขียวเค้าโครงยูทิลิตี้ที่จัดเตรียมไว้สำหรับพลังงาน น้ำ ไอเสีย และอากาศอัด
การว่าจ้าง:ใน-การตั้งค่าไซต์และการทดลองใช้งานภายใต้การดูแลของวิศวกรโรงงาน
การฝึกอบรม:การปฏิบัติจริง- การเปลี่ยนแคโทด และการฝึกสอนการบำรุงรักษาตามปกติ
การดูแลวงจรชีวิต:การวินิจฉัยระยะไกล VPN ที่ปลอดภัยและการจัดเตรียมชิ้นส่วนอะไหล่ในพื้นที่
คำถามที่พบบ่อย
ถาม: อนุภาคขนาดใหญ่ (หยด) ได้รับการควบคุมอย่างไรในระหว่างการสะสมของส่วนแคโทดอาร์ก
ตอบ: การบรรเทาผลกระทบอาศัยกระแสอาร์คที่ได้รับการปรับปรุง การบังคับทิศทางด้วยแม่เหล็กความเร็วสูง- และตัวกรองอนุภาคขนาดใหญ่ที่เป็นแม่เหล็กเพื่อความต้องการพื้นผิวที่เรียบเป็นพิเศษ-
ถาม: อัตราการใช้งานเป้าหมายแคโทดโดยทั่วไปคือเท่าใด
ตอบ: การใช้งานจะอยู่ระหว่าง 55% ถึง 70% ขึ้นอยู่กับโปรไฟล์การกัดเซาะแคโทดและการกำหนดค่าสนามแม่เหล็ก
ถาม: ระบบสามารถจัดการการสะสมของก๊าซปฏิกิริยาสำหรับฟิล์มหลาย-องค์ประกอบเช่น TiAlN ได้หรือไม่
ก. ใช่. ตัวควบคุมการไหลของมวล (MFC) ใช้การปล่อยแสงหรือการตอบสนองแรงดันบางส่วนเพื่อรักษาเสถียรภาพของการไหลปฏิกิริยา (N2, CH4) และรักษาองค์ประกอบปริมาณสัมพันธ์
ถาม: ข้อกำหนดด้านพลังงานไฟฟ้ามีอะไรบ้าง
ตอบ: ระบบมาตรฐานต้องใช้ไฟ 3 เฟส (380V-480V, 50/60 Hz) โดยมีความสามารถในการโหลดรวมตั้งแต่ 60 kVA ถึง 150 kVA ขึ้นอยู่กับปริมาณแคโทด
ป้ายกำกับยอดนิยม: ระบบการสะสมอาร์คไอออนหลาย- ผู้ผลิตระบบการสะสมอาร์คไอออนหลาย-ของจีน ซัพพลายเออร์ โรงงาน

